高J_c Sm_<1+x>Ba_<2-x>Cu_3O_<6+y>膜の表面形状
スポンサーリンク
概要
著者
-
高井 吉明
名大工
-
吉田 隆
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
-
一野 祐亮
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
-
高井 吉明
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
-
須藤 公彦
名古屋大学
-
伊藤 正志
山形大学工学部
-
伊藤 正和
名古屋大学
-
須藤 公彦
名大院工
-
吉田 隆
名古屋大学大学院工学研究科エネルギー理工学専攻
-
高井 吉明
名古屋大学大学院 工学研究科 エネルギー理工学専攻
-
一野 祐亮
名古屋大学
関連論文
- 異なる成膜温度で作製したBaZrO_3添加Sm_Ba_Cu_3O_y薄膜の磁束ピンニング特性と微細構造観察
- BaZrO_3ナノロッド導入によるVLS-Sm_Ba_Cu_3O_y膜の超伝導特性向上
- Sm_Ba_Cu_3O_y膜におけるJ_c磁場印加角度依存性に与えるBaZrO_3の影響
- BaZrO_3ナノロッドを導入したSmBa_2Cu_3O_y薄膜における磁束ピンニング特性と微細構造観察
- REBa_2Cu_3O_超伝導薄膜中の1次元ナノロッドの成長に及ぼす成膜条件の効果
- Ba/Sm-Zr-Oを添加したSmBa_2Cu_3O_薄膜の微細構造と磁束ピンニング特性
- REBa_2Cu_3O_膜中ナノロッド形成におけるペロブスカイト構造 : 自己ペロブスカイト構造化
- Sm_2Zr_2O_7を添加したSmBa_2Cu_3O_薄膜の微細構造と磁束ピンニング特性
- Nd:YA-PLD法を用いて金属基板上に作製したY123薄膜の超伝導特性
- IBAD-MgO上に製膜したREBCO線材のc軸相関ピン
- IBAD-MgO上に製膜したYBCO線材の微細構造と磁束ピンニング特性
- YbBCOシード層を用いたIBAD-MgO上YBCO線材の超伝導特性
- Nd:YAGパルスレーザー蒸着法を用いて作製したYBCO薄膜の超伝導特性
- REBa_2Cu_3O_系線材にむけた酸化物中間層の検討
- MgO中間層上に成長したYBa_2Cu_3O_y薄膜の表面形態、およびピンニング特性
- 異なるc軸相関ピンが磁束ピンニング状態図に及ぼす影響
- LTG-SmBCO膜におけるc軸相関ピンと磁束状態
- 高J_cを有するLTG-SmBCO膜における不可逆磁場
- MBE-VLS法を用いた(111)Si基板上へのGaAsナノワイヤ成長(機能ナノデバイスとおよび関連技術)
- BaZrO_3人工ドットを導入した(Nd,Eu,Gd)Ba_2Cu_3O_y薄膜の超伝導特性向上
- 異なる作製プロセスを用いたBaZrO_3添加Sm_Ba_Cu_3O_y薄膜の磁束ピンニング特性
- 高臨界電流密度を有するSm_Ba_Cu_3O_y厚膜におけるα軸配向相生成メカニズム
- 配向Ni-W合金基板上のLTG-Sm_Ba_Cu_3O_y薄膜の表面形態と磁場中J_c特性
- 低温成膜法で作製した (Nd, Eu, Gd)_Ba_Cu_3O_y薄膜の磁場中超伝導特性
- マイクロ波デバイス用各種バッファ層上の YBa_2Cu_3O_7-δ薄膜の結晶性
- ナノロッド形成におけるペロブスカイト構造の重要性
- 有機金属化学蒸着(MOCVD)法により作製したCu組成の異なるYBa_2Cu_3O_薄膜の電気特性
- VLS成長を用いたYBCO膜の作製とその配向性
- “イ”から始まったテレビジョン : —静岡大学高柳記念未来技術創造館—
- 積層ジョセフソン接合の磁場依存性と同時スイッチ
- GdBa_2Cu_3O_x/Gd_2CuO_4/GdBa_2Cu_3O_x積層膜の作製
- YBCO/LaGaO_3/Metal/Nb接合の作製とその特性評価
- ナノロッドを含むREBCO薄膜の磁束ピンニング特性
- 平成20年度リフレッシュ理科出張教室(東海支部戸倉会場)開催報告
- 平成19年度出張リフレッシュ理科教室(東海支部豊根・富山会場)開催報告
- 「応用物理」創刊75周年記念リフレッシュ理科教室開催報告
- 我が国の科学教育に対する応用物理学会の貢献
- リフレッシュ理科教室の現状と課題 : 10年間を振り返って
- 平成18年度出張リフレッシュ理科教室(東海支部千頭会場)開催報告
- 平成17年度出張リフレッシュ理科教室(東海支部丹波山・小菅会場)開催報告
- 平成17年度リフレッシュ理科教室(東海支部4会場)開催報告
- 平成17年度世界物理年記念リフレッシュ理科教室東海支部名古屋会場開催報告
- 平成16年度リフレッシュ理科教室(東海支部5会場)開催報告
- BZOナノロッドを導入したErBCO薄膜の磁束ピンニング特性(2)
- BZOナノロッドを導入したErBCO薄膜の磁束ピンニング特性
- PLD-CeO_2/IBAD-YSZテープ上におけるSm_Ba_Cu_3O_y厚膜の高I_c化
- LTG法を用いて作製したSm_Ba_Cu_3O_y薄膜の配向性と成長様式
- 高J_c-RE_Ba_Cu_3O_膜の磁場中特性と微細組織
- (Yb_Nd_x)Ba_2Cu_3O_y薄膜の超伝導特性に及ぼすNd置換量の影響
- 低温成膜プロセスによるSm_Ba_Cu_3O薄膜の高特性化
- PLD法で作成したREBa_2Cu_30_y薄膜の配向性
- 30a-K-6 Bi 系高温酸化物超伝導体に対するイオン照射効果
- α-軸配向ErBa_2C_3O_薄膜の作製と特性評価
- MBE-VLS法を用いた(111)Si基板上へのGaAsナノワイヤ成長(機能ナノデバイスとおよび関連技術)
- SmBa_2Cu_3O_y薄膜におけるBaZrO_3ナノロッドの成長機構に関する考察
- Vapor-Liquid-Solid 成長を用いて作製した人工ピン導入REBa_2Cu_3O_膜の微細組織
- REBa_2Cu_3O_y超電導膜の磁場中J_c向上のための人工ピンの導入 : 不純物ナノロッドの微細構造と成長機構
- REBa_2Cu_3O_y超伝導薄膜の成長制御によるナノ組織と超伝導特性
- ナノサイズ低T_c相導入Sm_Ba_Cu_3O_y薄膜の低温高磁場超伝導特性
- Sm-rich 層を積層したSmBCO多層膜の磁場中超伝導特性
- 金属基板上Sm_BaCu_3O_y薄膜の表面形態と磁場中J_c特性
- 異なる成膜プロセスにより作製したSm_Ba_Cu_3O_y薄膜の転位密度と臨界電流密度
- 逆空間マッピングを用いた低温成膜法SmBa_2Cu_3O_y薄膜の膜厚に対する結晶構造の評価
- 高J_c-Sm_Ba_Cu_3O_y薄膜の厚膜化に向けた表面平坦性の改善
- RFマグネトロンスパッタ法により作製したZn_Al_O薄膜の熱電特性
- 各種基板上にパルスレーザー蒸着法を用いて作製した[Ca_2CoO3_]_xCoO_2薄膜の熱電特性と微細組織
- Sm/Ba組成比がSm_Ba_Cu_3O_y薄膜の磁場中J_c特性に及ぼす影響
- 磁場中高J_c線材を目指したREBa_2Cu_3O_y薄膜の作製
- 高J_c Sm_Ba_Cu_3O_膜の表面形状
- Sm_Ba_Cu_3O_膜の微細組織、表面形状とJ_c特性
- 酸化物系伝導膜におけるVapor-Liquid-Solid成長
- 液体原料を用いた酸化物系MOCVD膜の作成及び評価
- REBa_2Cu_3O_系線材とその高J_C化
- BaZrO_3導入ErBa_2Cu_3O_膜の磁場中超伝導特性
- 低温・強磁場条件下におけるSmBa_2Cu_3O_y薄膜の磁束ピンニング特性
- 表面形状の異なる酸化物中間層上に作製したREBCO薄膜の超伝導特性
- 低温成膜法により作製したYBa_2Cu_3O_y薄膜の転位密度及び磁場中超伝導特性
- 低温成膜法で作製したYBa_2Cu_3O_y薄膜の磁場中超伝導特性
- TEM組成マッピングによる高J_c-SmBCO膜のピニング機構の解明
- LTG-NdBCO薄膜のJ_c特性に及ぼすシード層の平坦性の影響
- BaZrO_3導入ErBa_2Cu_3O_膜の磁場中超伝導特性
- ナノドット上に成長させた高J_c-SmBCO膜の超伝導特性と微細組織
- Sm/Ba組成比の異なるLTG-Sm_Ba_Cu_3O_y薄膜の転位密度と臨界電流密度
- レーザ蒸着法で作製したRE_Ba_Cu_3O_膜の高磁場中高J_c特性
- Pulsed Laser Deposition 法で作成したREBa_2Cu_3O_y薄膜の配向性と超伝導特性 (RE=Nd, Sm, Gd, Y and Yb)
- PLD-YbBa_2Cu_3O_y膜のJ_cに及ぼす膜厚、ターゲットの影響
- 高J_c化Sm_Ba_Cu_3O_膜の膜厚依存性及び磁場中特性
- 均質化したRE123系PLD薄膜のマイクロ波特性
- パルスレーザー蒸着法で作製したErBa_2Cu_3O_y薄膜の超伝導特性に与える酸素アニール効果
- CVD法によるアナタース酸化チタン薄膜の低温形成
- ErBa_2Cu_3O_薄膜へのBaZrO_3添加量依存性
- APC導入型123系超伝導薄膜の臨界電流密度特性(1)
- REBa_2Cu_3O_y薄膜の臨界電流密度に及ぼす磁場印加角度と温度の影響
- 不純物ドーピングを利用したErBa_2Cu_3O_y超伝導薄膜への人工ピン導入
- 2軸配向金属基板上に成膜したCeO_2薄膜の結晶配向と微細組織
- パルスレーザ蒸着法で作製したp型La_M_xCuO_4 (M = Ca, Sr, Ba) 酸化物薄膜の熱電特性
- パルスレーザ蒸着法で作製したn型Sm_Ce_xCuO_4酸化物薄膜の熱電特性
- rfマグネトロンスパッタ法を用いた酸化物熱電材料Ca_Al_Co_2O_y薄膜の作製及びその評価
- パルスレーザー蒸着法による[Ca_2CoO_3]_x[CoO_2]薄膜の作製及びその特性
- Sm_Ba_Cu_3O_膜の微細組織とJ_c特性