第一原理分子動力学の新手法の開発
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2001-09-22
著者
関連論文
- 超純水のみによる電気化学的加工法の銅ダマシン配線形成プロセスへの応用
- 超純水のみによる電気化学的加工法の研究 : 陰極Al(001)表面における除去加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション
- 超純水のみによる電気化学的加工システムの開発と平坦化加工プロセスへの応用
- 超純水のみによる電気化学的加工法の研究 : 陰極表面における加工現象
- 超純水のみによる電気化学加工法のダマシン配線形成プロセスへの応用
- 超純粋超高速せん断流によるシリコンウエハ表面の洗浄:汚染微粒子の除去特性
- 超純水のみによる電気化学的加工法の研究 : 陰極Si(001)表面における除去加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション
- 超純水のみによる電気化学的加工法の研究 : 陽極Si(001)表面の反応素過程
- 超純水のみによる電気化学的加工法の研究 : 加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション
- 超純水のみによる電気化学的加工法の研究 : 水素終端化されていないSi(001)表面原子とOHとの反応素過程
- Elastic Emission Machiningにおける表面原子除去過程の解析とその機構の電子論的な解釈
- 第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Maching)加工機構の解明:加工物表面構造に対する反応性の依存性
- 第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Machining)加工特性の加工物材料(Si, Ge)依存性の解析
- 半無限電極に挟まれたナノジャンクションの第一原理電子状態計算法
- 25pPSB-66 ピーナッツ型フラーレンナノチューブの電子状態計算(25pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- ダイヤモンドからの電界電子放出に関する研究 : 電界電子放出素子作製法の開発及び電界電子放出中のダイヤモンド表面の電子論的解析
- 第一原理分子動力学シミュレーションによるEEM(Elastic Emission Machinig)加工機構の解明 : Si(001)表面とSiO_2微粒子の結合過程および分離過程の解明
- 高周波スパッタ蒸着法による多結晶Siの低温成膜に関する研究(第2報) : Si薄膜の構造および電気・光学特性
- 高周波スパッタ蒸着法による多結晶Siの低温成膜に関する研究(第1報)
- 超純水のみによる電気化学的加工システムの開発と平坦化加工プロセスへの応用
- 超純水のみによる電気化学的加工法の研究 : 陰極表面における加工現象
- STM/STSによるハロゲン吸着Si(001)2X1表面の観察(第3報)
- 液体金属の濡れ性に関する分子軌道計算による考察
- 炭素系基盤への金属原子拡散過程の分子軌道論的考察
- 超高真空中での液体金属の濡れ性測定と評価(第2報) : 液体金属の濡れ性と原子拡散の検討
- 固体表面での濡れ性制御に関する研究(第3報) -炭素系基板上の液体金属の濡れ性, 相互拡散性の評価-
- 超高真空中での液体金属の濡れ性測定と評価
- 固体表面での濡れ性制御に関する研究 第2報 -第一原理分子軌道計画(二原子分子モデル)による液体金属の濡れ性評価-
- 第一原理計算によるH原子吸着Si(001)表面のSTM像の解析
- 超純水のみによる電気化学的加工法の研究
- 超精密加工専門委員会 : 水の化学的機能を利用した新しい生産プロセス(専門委員会・分科会研究レビュー)
- 超純水のみによる電気化学的加工法の第一原理分子動力学シミュレーション : 陰極におけるA1(001)表面加工現象
- ナノ構造の電気伝導特性
- 金属・半導体と水酸イオンの電気化学反応及び超純水による加工への応用(第3報)
- 金属・半導体と水酸イオンの電気化学反応及び超純水による加工への応用(第2報)
- STM/STSによるハロゲン原子が吸着したSi(001)2×1表面の観察
- 光反射率スペクトルによるSiウエハ表面評価法の開発 : 装置の開発と加工表面評価
- プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)における加工現象の第一原理分子動力学シミュレーション(第5報)-Si表面とハロゲン原子の相互作用の解析(その3)-
- STM/STSによるハロゲン吸着Si(001)2x1表面の観察(第4報)
- Si(001)表面におけるアンモニア吸着過程の第一原理分子動力学シミュレーション
- 第一原理分子動力学の新手法の開発
- 第一原理分子動力学法による計算機シュミレーション : シリコン単結晶(001)表面へのアンモニア分子の吸着過程
- 金属・半導体と水酸イオンの電気化学反応及び超純水による加工への応用(第1報)