ラジカル開始剤である過酸化ベンゾイルによる水素化ダイヤモンド表面の水素引き抜き反応
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概要
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- 日本表面科学会の論文
- 2001-12-10
著者
-
永田 正典
熊本県産業技術センター材料開発部
-
伊田 進太郎
九大院工
-
松本 泰道
熊大院自然
-
松本 泰道
熊本大学工学部
-
永岡 昭二
熊本県産技セ
-
永岡 昭二
熊本県工業技術センター
-
永田 正典
熊本県工業技術センター
-
平林 修
熊本大学大学院 自然科学研究科
-
坪田 敏樹
熊本県工業技術センター材料開発部
-
平林 修
熊本大学工学部物質生命化学科
-
伊田 進太郎
熊本大学工学部物質生命化学科
-
坪田 敏樹
九州大学大学院工学研究院 応用化学部門
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