低速イオン散乱法によるSi(100)表面へのヘテロエピタキシー
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概要
著者
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上田 一之
豊田工業大学ナノハイテクリサーチセンター
-
安 東秀
豊田工業大学ナノハイテクリサーチセンター
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上田 一之
豊田工業大学 ナノハイテクリサーチセンター
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上田 一之
豊田工
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安 東秀
豊田工業大学大学院工学研究科
-
阪巻 なみ
豊田工業大学大学院工学研究科
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