過酸化水素併用254nm光照射による水中ギ酸の酸化分解特性
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概要
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回分系循環型光反応システムを用い, 過酸化水素を添加した希薄なギ酸水溶液に254nm光を照射した場合のギ酸ならびに過酸化水素の分解過程を詳細に追跡した.過酸化水素初濃度の大小に関わらず, 酸素溶存下でギ酸が存在している間は過酸化水素減少の割合が小さい.ギ酸分解速度は照射光強度に比例し, また過酸化水素濃度の0.5次に比例する.ギ酸濃度自体の影響は小さい.<BR>これら観測結果を, 素反応群を考慮に入れた光反応モデルを用いてシミュレートした.まず, 過酸化水素自己分解実験結果から過酸化水素の光分解開始反応速度定数を決定した.次に, ギ酸光分解の評価にあたって, 高活性なヒドロキシルラジカルがギ酸から水素原子を引き抜くと同時に, 生成したギ酸由来のラジカルに溶存酸素が付加する過程を通して過酸化水素が再生されるとするモデルを採用した.本モデルによりギ酸分解特性及び過酸化水素の特異な濃度変化を比較的良くシミュレートできる.
- 社団法人 化学工学会の論文
- 1999-11-20
著者
-
菅原 拓男
秋田大学工学資源学部 環境応用化学科
-
菅原 勝康
秋田大 工学資源
-
菅原 勝康
秋田大学工学資源学部
-
菅原 拓男
秋田大学工学資源学部
-
桜田 淳二
秋田住友ベーク(株)
-
川嶋 利明
新潟工事(株)
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