バイブロスキャニング法を用いた微細穴の加工精度評価
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1998-09-01
著者
-
橋本 健
住友電気工業株式会社
-
茂原 政一
住友電気工業株式会社横浜研究所
-
奥野 薫
住友電気工業株式会社
-
土屋 一郎
住友電気工業(株)横浜研究所
-
茂原 政一
住友電気工業 横浜研
-
橋本 健
住友電気工業横浜研究所
-
土屋 一郎
住友電気工業株式会社
-
土屋 一郎
住友電気工業横浜研究所
-
奥野 薫
住友電気工業横浜研究所
関連論文
- ファイバーグレーティングとその応用
- B-10-4 高難燃φ2.0mm 光ファイバコードの開発
- B-10-2 高難燃ハロゲンフリー光ファイバ心線の開発
- 厳密結合波理論を用いた多層膜回折格子の偏波無依存設計およびその試作(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- 直接変調ファイバグレーティングレーザ(FGL)を用いたチャンネル間隔12.5GHz及び25GHzでのDWDM伝送
- 直接変調ファイバグレーティングレーザ(FGL)を用いた周波数間隔25GHzでのDWDM伝送
- ファイバーグレーティング内蔵型1480nm帯励起レーザモジュール
- C-4-6 ファイバーグレーティング外部共振器レーザのファイバ曲げに対する信頼性
- グレーティングを用いた広帯域波長可変光源
- B-10-104 LバンドEDFAにおけるロックトインバージョン法評価の検証
- 超低損失0.151dB/km純シリカコアファイバと伝送システムの長距離化
- 側方反射法による光ファイバ被覆偏肉の測定
- C-3-48 EDFA 温度特性補償型ハイブリッド利得等化器の開発
- C-3-145 スラント型ファイバグレーティングのPDL低減の検討
- C-3-144 ファイバグレーティング型広帯域遮断フィルタ
- ファイバグレーティング型広帯域遮断フィルタ
- ファイバグレーティング型広帯域遮断フィルタ
- ファイバグレーティング型広帯域遮断フィルタ
- ファイバグレーティング型広帯域遮断フィルタ
- C-3-123 クラッドモード選択結合ファイバグレーティング型損失フィルタ
- C-3-119 低NAファイバを用いたスラントファイバグレーティング
- C-3-118 放射モードロスを抑えた分散調整用多チャンネルFBG
- 直接変調ファイバグレーティングレーザ(FGL)を用いたチャンネル間隔12.5GHz及び25GHzでのDWDM伝送
- 直接変調ファイバグレーティングレーザ(FGL)を用いたチャンネル間隔12.5GHz及び25GHzでのDWDM伝送
- 直接変調ファイバグレーティングレーザ(FGL)を用いたチャンネル間隔12.5GHz及び25GHzでのDWDM伝送
- D-WDM用ファイバグレーティング外部共振器型レーザモジュール
- D-WDM用ファイバグレーティング外部共振器型レーザモジュール
- ファイバグレーティング外部共振器型多波長レーザアレイ
- 水素添加ガラスの光誘起屈折率変化
- 位相格子を用いたファイバグレーティングの作製
- ファイバグレーティングの作成と応用について
- C-3-11 低分散バンドセパレーションFBGの開発
- C-3-142 低分散型FBGを用いた10Gb/sペナルティーフリー多段ADM伝送実験
- ファイバグレーティング型可変分散補償器
- 多波長反射型ファイバブラッググレーティング
- ファイバグレーティングレーザ動特性の数値解析
- ASE除去用ファイバグレーティングによるEDFA多段増幅系の特性改善
- C-3-131 25GHz 狭帯域 FBG の開発
- ひずみ付与によるファイバグレティング型可変分散補償器
- C-3-141 C-FBGを用いた温度制御型可変分散補償器
- C-3-140 C-FBGを用いたひずみ制御型可変分散補償器
- C-4-36 大口径 EDF を用いた超低非線形 L バンド光増幅
- ノンハロゲン難燃光ファイバコードの開発
- ノンハロゲン難燃光ファイバコードの開発
- ノンハロゲン難燃光ファイバコードの開発
- B-10-12 0.9→0.25mm被覆変換が容易なノンハロ心線の開発
- 光ファイバグレーティングとその応用
- 波長安定型狭帯域OTDR光源
- 外部プローブ光によるファイバグレーティングの構造測定
- 光線路網におけるファイバグレーティングの応用
- 波長安定型狭帯域OTDR光源
- ファイバグレーティングを用いたEDFA励起用0.98μmLD
- ファイバグレーティングを用いた縦単一モードLD
- ファイバグレーティングレーザの隙間計測への応用
- ファイバグレーティングを用いた多点ファイバセンサの検討
- B-10-5 耐座屈性に優れるハロゲンフリー難燃光ファイバコードの開発
- B-10-2 ポリオレフィン系樹脂を用いた新規ハロゲンフリー0.9mmφ心線
- B-10-11 ノンハロゲン難燃光ファイバコードの開発
- C-3-121 サンプルド長周期グレーティング
- 長周期ファイバグレーティング利得等化器
- 被覆上照射ファイバグレーティング
- 位相シフト長周期グレーティング
- 紫外線書込型長周期ファイバグレーティングの熱緩和特性解析(超高速・大容量光伝送/処理,波分散,及びデバイス技術,一般)
- 紫外線書込型長周期ファイバグレーティングの熱緩和特性解析
- 紫外線書込型長周期ファイバグレーティングの熱緩和特性解析
- C-3-90 高信頼性の被覆上照射長周期グレーティング
- C-3-72 縦列長周期ファイバグレーティングによるLバンド用利得等化器
- C-3-55 長周期ファイバグレーティングの熱緩和特性
- 長周期グレーティングの透過特性リップル抑圧
- 長周期ファイバグレーティングの損失特性の張力依存性
- 残留応力緩和型長周期グレーティング
- LDトランシーバを用いた光伝送装置の試作
- 偏波保持ファイバの諸特性
- 残留応力緩和により純シリカコアファイバに作製した長周期光ファイバグレーティング
- C-3-32 縦列長周期グレーティングによる広帯域利得等化器
- C-3-53 被覆上から作製したファイバグレーティング
- 波長多重ファイバグレーティング外部共振器レーザアレイ
- ファイバグレーティング外部共振器半導体レーザの変調歪特性の評価
- 厳密結合波理論を用いた多層膜回折格子の偏波無依存設計およびその試作
- 厳密結合波理論を用いた多層膜回折格子の偏波無依存設計およびその試作(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- 厳密結合波理論を用いた多層膜回折格子の偏波無依存設計およびその試作(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- 厳密結合波理論を用いた多層膜回折格子の偏波無依存設計およびその試作(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- 高角分散を有する多層膜回折格子の偏波無依存設計
- 位相シフト型ファイバグレーティング
- B-13-8 ファイバグレーティングのOLCRによる構造解析
- ファイバグレーティングの反射応答計測による構造解析
- B-10-14 ノンハロゲン難燃光ファイバコードの開発
- バイブロスキャニング法を用いた微細穴の加工精度評価