ファイバグレーティング型広帯域遮断フィルタ
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
スラント型ファイバグレーティング(SFBG)の広帯域遮断フィルタへの適用を検討した。チャープトマスクを用いてSFBGを作成した結果、遮断帯域幅38nm、遮断量-20dB、および遮断帯域内の反射-35dBの遮断フィルタを作成することが出来た。また、SFBGのPDL発生要因を調査し、特性改善に有効なUV照射方法(2方向照射)を検討した。その作成方法にてグレーティングを形成した結果、他のグレーティングと比較しても十分低いPDL(<0.3dB)を実現することが出来た。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-01-17
著者
-
樽 稔樹
住友電気工業株式会社光通信研究所
-
石川 真二
住友電気工業(株)
-
茂原 政一
住友電気工業株式会社横浜研究所
-
大村 真樹
住友電気工業株式会社光通信研究所
-
重松 昌幸
住友電気工業株式会社横浜研究所
-
石川 真二
住友電気工業株式会社
-
石川 真二
住友電気工業横浜研究所
-
茂原 政一
住友電気工業 横浜研
-
茂原 政一
住友電気工業株式会社光通信研究所
-
樽 稔樹
住友電気工業株式会社
-
茂原 政一
住友電気工業株式会社
関連論文
- カットオフシフトシングルモードファイバにおけるスーパーコンティニューム光発生(光ファイバ,光ファイバケーブル,光ファイバ部品,光信号処理,光計測,光伝搬,光発生,一般)
- Al共添加EDF中のEr周辺の局所構造解析(高機能光ファイバ及び一般)
- C-3-31 Al共添加EDF中のEr局所構造解析(光増幅器,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- ファイバーグレーティングとその応用
- 低曲げ損失単一モードヘテロクラッド構造ソリッドコアフォトニックバンドギャップファイバ(高機能光ファイバ及び一般)
- 厳密結合波理論を用いた多層膜回折格子の偏波無依存設計およびその試作(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
- 直接変調ファイバグレーティングレーザ(FGL)を用いたチャンネル間隔12.5GHz及び25GHzでのDWDM伝送
- 直接変調ファイバグレーティングレーザ(FGL)を用いた周波数間隔25GHzでのDWDM伝送
- ファイバーグレーティング内蔵型1480nm帯励起レーザモジュール
- C-4-6 ファイバーグレーティング外部共振器レーザのファイバ曲げに対する信頼性
- グレーティングを用いた広帯域波長可変光源
- B-10-104 LバンドEDFAにおけるロックトインバージョン法評価の検証
- B-10-103 温度制御によるLバンドEDFAの動的利得傾斜の低減
- C-3-131 ITU-T G.652に適合するOHフリー純石英コアファイバ(1) : ファイバ特性(光ファイバ)(C-3.光エレクトロニクス)
- 側方反射法による光ファイバ被覆偏肉の測定
- C-3-48 EDFA 温度特性補償型ハイブリッド利得等化器の開発
- C-3-145 スラント型ファイバグレーティングのPDL低減の検討
- C-3-144 ファイバグレーティング型広帯域遮断フィルタ
- ファイバグレーティング型広帯域遮断フィルタ
- ファイバグレーティング型広帯域遮断フィルタ
- ファイバグレーティング型広帯域遮断フィルタ
- ファイバグレーティング型広帯域遮断フィルタ
- C-3-123 クラッドモード選択結合ファイバグレーティング型損失フィルタ
- C-3-119 低NAファイバを用いたスラントファイバグレーティング
- 直接変調ファイバグレーティングレーザ(FGL)を用いたチャンネル間隔12.5GHz及び25GHzでのDWDM伝送
- 直接変調ファイバグレーティングレーザ(FGL)を用いたチャンネル間隔12.5GHz及び25GHzでのDWDM伝送
- 直接変調ファイバグレーティングレーザ(FGL)を用いたチャンネル間隔12.5GHz及び25GHzでのDWDM伝送
- D-WDM用ファイバグレーティング外部共振器型レーザモジュール
- D-WDM用ファイバグレーティング外部共振器型レーザモジュール
- ファイバグレーティング外部共振器型多波長レーザアレイ
- 水素添加ガラスの光誘起屈折率変化
- 位相格子を用いたファイバグレーティングの作製
- ファイバグレーティングの作成と応用について
- ファイバグレーティングレーザ動特性の数値解析
- ASE除去用ファイバグレーティングによるEDFA多段増幅系の特性改善
- ファイバグレーティングのべき型熱劣化特性および長期劣化予測
- C-3-9 シリカベースビスマス添加ファイバの1.1μm帯蛍光特性(C-3. 光エレクトロニクス(光ファイバアンプ), エレクトロニクス1)
- C-4-36 大口径 EDF を用いた超低非線形 L バンド光増幅
- C-4-35 シリカ系 P/Al 共添加 EDF による S バンド光増幅
- レーザー加工用高出力光伝送ファイバの開発(光ファイバケーブル・コード,通信用光ファイバ,光ファイバ線路構成部品,光線路保守監視・試験技術,接続・配線技術,光ファイバ測定技術,光コネクタ,ホーリーファイバ,機能性光ファイバ,光信号処理,光ファイバ型デバイス,光測定器,レーザ加工,ハイパワーレーザ光輸送,光給電,一般)
- ファイバブラッググレーティング反射波長の熱緩和特性
- 光ファイバグレーティングの熱緩和
- 光ファイバグレーティングとその応用
- 波長安定型狭帯域OTDR光源
- 外部プローブ光によるファイバグレーティングの構造測定
- 光線路網におけるファイバグレーティングの応用
- 波長安定型狭帯域OTDR光源
- ファイバグレーティングを用いたEDFA励起用0.98μmLD
- ファイバグレーティングを用いた縦単一モードLD
- ファイバグレーティングレーザの隙間計測への応用
- ファイバグレーティングを用いた多点ファイバセンサの検討
- B-13-14 耐曲げ特性を改良した細径 SMF の試作
- All-solid Photonic Bandgap Fiberによるラマン利得の抑圧
- C-3-11 Er添加微細構造ファイバを用いたASE抑制と利得向上(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- B-10-77 分布ラマン増幅を用いた無中継伝送におけるA_拡大・低損失純シリカコアファイバのOSNR特性(B-10.光通信システムB(光通信),一般セッション)
- FBG用感光性クラッドファイバの開発
- B-13-25 矩形コアファイバによる矩形ビームの形成(B-13.光ファイバ応用技術,一般セッション)
- 応力緩和によるMFD変換部の低損失構造の検討
- C-3-121 サンプルド長周期グレーティング
- 長周期ファイバグレーティング利得等化器
- 被覆上照射ファイバグレーティング
- 位相シフト長周期グレーティング
- 紫外線書込型長周期ファイバグレーティングの熱緩和特性解析(超高速・大容量光伝送/処理,波分散,及びデバイス技術,一般)
- 紫外線書込型長周期ファイバグレーティングの熱緩和特性解析
- 紫外線書込型長周期ファイバグレーティングの熱緩和特性解析
- C-3-90 高信頼性の被覆上照射長周期グレーティング
- C-3-72 縦列長周期ファイバグレーティングによるLバンド用利得等化器
- C-3-55 長周期ファイバグレーティングの熱緩和特性
- 長周期グレーティングの透過特性リップル抑圧
- 長周期ファイバグレーティングの損失特性の張力依存性
- 残留応力緩和型長周期グレーティング
- LDトランシーバを用いた光伝送装置の試作
- BCI-1-3 光通信用ファイバにおける超低損失化技術(BCI-1.光通信における最新極限技術,依頼シンポジウム,ソサイエティ企画)
- BCI-1-3 光通信用ファイバにおける超低損失化技術(BCI-1.光通信における最新極限技術,ソサイエティ企画)
- 偏波保持ファイバの諸特性
- C-3-31 分散スロープ補償ファイバの検討
- 1580nm帯で高単位長利得を持つEDFの検討
- 純石英コアファイバと分散補償ファイバを用いた超低分散光ファイバ伝送路
- 高非線形性分散シフトファイバと波長変換への応用
- Wクラッドファイバの熱拡散によるファイバ型固定減衰器の作製
- 波長多重(WDM)伝送用分散シフトファイバ
- 位相差顕微鏡を用いたコア熱拡散ファイバの観察
- GIファイバレンズを用いた光アイソレータの信頼性評価
- 2心光アイソレータの試作と諸特性
- 残留応力緩和により純シリカコアファイバに作製した長周期光ファイバグレーティング
- C-3-32 縦列長周期グレーティングによる広帯域利得等化器
- C-3-53 被覆上から作製したファイバグレーティング
- B-13-22 All-Solid PBGFによるラマン利得の抑圧(B-13.光ファイバ応用技術,一般講演)
- 波長多重ファイバグレーティング外部共振器レーザアレイ
- ファイバグレーティング外部共振器半導体レーザの変調歪特性の評価
- 厳密結合波理論を用いた多層膜回折格子の偏波無依存設計およびその試作
- 光ファイバーグレーティングによる精密計測技術
- B-10-5 極低クロストークマルチコアファイバのクロストーク分布の測定(B-10.光通信システムA(光ファイバ伝送路),一般セッション)
- B-10-3 極低クロストーク・低損失マルチコアファイバ(B-10.光通信システムA(光ファイバ伝送路),一般セッション)
- レーザー加工用高出力光伝送ファイバの開発
- BI-7-2 極低クロストークマルチコアファイバ(BI-7. 光通信インフラの飛躍的な高度化に向けた我が国の取り組み,依頼シンポジウム,ソサイエティ企画)
- 均一7コアファイバを用いた109-Tb/s空間/波長/偏波多重QPSK信号の16.8km伝送(コア・メトロシステム,フォトニックネットワーク・システム,光ネットワーク運用管理,光ネットワーク設計,トラヒックエンジニアリング,シグナリング,GMPLS,ドメイン間経路制御,ネットワーク監視,イーサネット,光伝達網(OTN),高速インタフェース,光制御(波長変換・スイッチング・ルーチング),光ノード技術,光クロスコネクト(OXC),光分岐挿入多重(OADM),光多重・分離装置,光信号処理,光スイッチ素子,一般)
- 伝送容量の飛躍的向上へ向けた空間多重・マルチコアファイバ通信の為の基盤技術(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
- 伝送容量の飛躍的向上へ向けた空間多重・マルチコアファイバ通信の為の基盤技術(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
- 低曲げ損失シングルモード型空孔アシスト光ファイバ