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SELETE | 論文
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- 23aYH-11 軟X線吸収発光分光法によるシリコン酸窒化膜の元素選択的価電子状態の観測(23aYH 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 次世代半導体材料・プロセス基盤(MIRAI)プロジェクト
- シリコン技術
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- 第20回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議(MNC 2007)報告
- SC-12-7 2.125Gb/s BiCMOS ファイバチャネル送信LSI
- AV-DSPDアーキテクチャを用いた4.25GHz BiCMOSクロックリカバリ回路
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- ファイル応用1GbDRAM
- 2007年VLSI技術シンポジウム報告
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