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Research Institute, Kochi University of Technology, Kami, Kochi 782-8502, Japan | 論文
- カーボンナノチューブの合成と電界電子放出ランプ（FEL）への応用
- カーボンナノチューブ量産技術開発と電界電子放出素子への応用
- 基板バイアスにより制御されたZnO薄膜の結晶性とドライエッチングにより形成される側壁形状との相関
- 選択エッチング法によるナノサイズ炭素エミッタ形成
- 非耐熱性基板用低温絶縁膜技術の開発 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
- カーボンナノチューブ材料と応用 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
- ZnO-TFTの開発と液晶ディスプレイへの応用 (特集 産学官協力の場--高知工科大学)
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用 (電子ディスプレイ)
- Effect of Pulsed Substrate Bias on Film Properties of SiO2 Deposited by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition
- 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- Formation of Nanofibers on the Surface of Diamond-Like Carbon Films by RF Oxygen Plasma Etching
- カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用
- 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成
- Low-Temperature Growth of Carbon Nanofiber by Thermal Chemical Vapor Deposition Using CuNi Catalyst
- 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成(発光型/非発光型ディスプレイ,テーマ:ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術)
- XRDを用いたカーボンナノチューブ構造体の結晶構造解析法(LSIを含む電子デバイスの評価・解析・診断,及び信頼性一般)
- SiO2 Insulator Film Synthesized at 100 °C Using Tetramethylsilane by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition
- Influence of Thermal Annealing on Microstructures of Zinc Oxide Films Deposited by RF Magnetron Sputtering
- Effect of Energetic Particle Bombardment on Microstructure of Zinc Oxide Films Deposited by RF Magnetron Sputtering
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