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筑波大学・物理工学系 | 論文
- IUVSTAだより
- 低速陽電子ビームを用いたCu/low-k配線構造中の欠陥検出(配線・実装技術と関連材料技術)
- Si FEAのHfC被覆による特性改善 : 引出ゲート付きHfC被覆Si FEAの作製と評価
- 走査型マスクウェル応力顕微鏡によるFe-42Ni合金表面のミクロ仕事関数分布計測
- 表面粗さの評価/パワースペクトル密度と傾きヒストグラム
- 超高真空マクスウエル応力顕微鏡によるエミッタ材料の評価
- 超音速分子線技術を用いたCH_4分子とPt(111)-(2×2)-O表面との相互作用に関する研究
- Pt(111)表面でのCH_4分子の解離吸着反応に及ぼすCs吸着の影響と反応過程
- CH_4分子により修飾されたPt(111)表面の仕事関数
- 分子線飛行時間計測法によるPt(111)表面でのアルカン分子の衝突過程の研究
- 局所トンネル障壁高さ計測
- P-2 逆回折問題としての超音波断層法(ポスター・セッション)
- X線マイクロスコープの開発
- 表面化学反応における仕事関数の役割
- 超音速分子線散乱技術を用いた表面化学反応の研究
- 材料表面の電子物性計測と真空
- 熱エネルギー原子線散乱法による吸着脱離過程の測定
- 超音速分子線散乱技術を用いた表面化学反応の研究
- 第2回真空電子源国際会議 -真空電子源の源流から大海原への船出まで-
- 熱電子放出型電子源発展の歴史