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松下電器産業株式会社 半導体研究センター | 論文
- パネル討論 : 設計/CAD技術はディープサブミクロン時代の挑戦に耐えられるか
- スタンダードセル方式ブロックの形状見積りの方法と評価
- フラクタル次元を利用したVLSIレイアウト向きクラスタリング手法
- リーフセル回路最適化手法(システムLSIの設計技術と設計自動化)
- 製造ばらつきを考慮したマクロセルレイアウト合成システム
- 統計的静的遅延解析における偽パス除去手法について
- CMOS組み合わせ回路のための相関を考慮した統計的静的遅延解析手法
- マクロセルの最適レイアウト合成システム
- レイアウトを考慮した容量/面積推定モデルおよびトランジスタサイズ最適化手法 (電子システムの設計技術と設計自動化)
- トランジスタのサイズと折り返しとの同時最適化手法
- レイアウトを考慮したトランジスタサイジングの一手法
- 屈曲ゲートを用いたレイアウト合成手法とその評価
- 3次元CGレンダリングLSIにおける高画質描画方式
- リーフセル合成のための一配線手法(電子システムの設計技術と設計自動化)
- リーフセル用配線システム
- リーフセル用配線システム
- シｰ･オブ･セルズ型レイアウト･アｰキテクチャの提案 : 最適なセル列高さに合わせたリｰフ･セル再合成
- VLSIのリーフセル合成に関する一手法 : コンパクション方法の開発とその評価
- VLSIのリーフセル合成に関する一手法(コンパクション方法の開発とその評価)
- パネル討論 : システムオンシリコン時代に向けてどんなCADを作るべきか?