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松下電器産業株式会社半導体研究センター | 論文
- miRNAアレイと癌研究への利用 : 発現プロファイルは新しい診断ツールや予後予測ツールとなりうるか
- 0.13μm CMOSプロセスを用いたDVDプレーヤ用アナデジ混載SoCの開発(VSLI一般(ISSCC'03関連特集))
- SC-6-2 熱酸化プロセスのAlGaN/GaN系ヘテロ接合FETへの応用
- PdSiゲートAlGaN/GaN HEMTの特性(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
- 熱酸化膜を用いたMOS型AlGaN/GaN系ヘテロ構造FET
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- AlGaN/GaNヘテロ接合電界効果型トランジスタの高耐圧化技術
- C-2-86 誘電体共振器と並行平板導波路からなる2次元負屈折率媒質(C-2.マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般講演)
- シミュレーションを用いたポリシリコンゲートエッチングにおける形状と寸法の制御解析
- シミュレーションを用いたポリシリコンゲート・エッチングのプロファイル制御
- 3次元CGレンダリングLSIにおける画素内挿機構
- 3次元CGレンダリングLSIにおける描画方式
- フルデジタル等化方式PRMLリードチャネルを搭載した0.13μm CMOS超小型DVD用SoC(プロセッサ,DSP,画像処理技術及び一般)
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- プラズマダメージを受けたゲート酸化膜の定電流TDDB寿命と定電圧TDDB寿命の関係
- 容量補間動作の直線性に関する検討
- 2.A/D, D/Aコンバータ(最近の画像処理用LSI技術)
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