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東北大学工学研究科電子工学専攻 | 論文
- ノンポーラスULK層間膜(フロロカーボン)へのダメージを抑制したCu-CMP後洗浄液の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- Hcp Co ナノ粒子群の液相合成と磁気特性
- 清浄雰囲気下で作製した薄膜媒体の粒間相互作用の評価 (磁気トルクの温度変化とシミュレーション解析)
- 高精度CMP終点検出方法の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
- 電子デバイス製造用クリーンルームにおける室内系統水噴霧加湿の研究 : 第1報-省エネルギー効果の検証
- 高保磁力ナノ粒子の化学合成 : 酸化物および金属ナノ粒子について
- エタノール添加スラリーを用いたCMPによるCWレーザ結晶化Si薄膜の平坦化(プロセス科学と新プロセス技術)
- C-10-24 微細n型SOI-MESFETの電流電圧特性(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- 機械的歪み印加によるSrTiO_3MIMキャパシタ誘電率変調(プロセス科学と新プロセス技術)
- 薄膜初期成長過程に及ぼす金属シード層の効果
- 連続波レーザーによる強誘電体PZT薄膜の結晶化,AWAD2006)
- 連続波レーザーによる強誘電体PZT薄膜の結晶化
- 31p-W-12 Co-Fe合金におけるdhcp-hcp相転移と磁区模様
- マイクロ波励起プラズマ窒化法で作製した強磁性トンネル接合
- RLSA放射マイクロ波励起プラズマのプローブ診断と発光分光分析
- マイクロ波励起プラズマ酸化法で作製した強磁性トンネル接合 : TMR効果に及ぼす希ガスの影響
- プラズマ制御による超分子構造ナノチューブの創製
- MnSbPt薄膜の構造と巨大磁気光学効果 (磁気光学・光磁気記録)
- 高性能LTPS-TFTのためのDouble-Line-Beam CLCによる高結晶配向Poly-Si薄膜形成(プロセス科学と新プロセス技術)
- 次世代LSI向け低誘電率絶縁膜/Cuダマシン配線の形成(プロセス科学と新プロセス技術)