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東京工業大学工学部電子物理工学科 | 論文
- MBE法による強誘電体YMnO_3薄膜のSi(111)基板上への成長
- Krイオンビームスパッタ堆積によるGMR多層膜の特性改善
- Ni-Fe/Cu多層膜における界面へのイオン照射 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- Ni-Fe/Cu多層膜の界面におけるイオン照射効果と磁気抵抗特性の変化
- Ni-Fe/Cu GMR多層膜におけるイオン照射とアニールによる界面制御効果とスピンバルブのFeMn層配向制御効果
- Ni-Fe/Cu GMR多層膜におけるイオン照射とアニールによる界面制御効果とスピンバルブのFeMn層配向制御効果
- イオンビームスパッタ法によるNi-Fe/Cu巨大磁気抵抗効果多層膜のバッファー層制御特性
- シャッフル交換ネットワークとde Bruijnネットワークの3次元VLSIレイアウト
- de Bruijn ネットワークの効率的なレイアウトについて
- 蛍光表示板の光学特性に関する研究(ビーズ状サンプル)
- 集積形光アイソレータを目指したダイレクトボンディングにおけるウェハ処理法
- 集積形光アイソレータを目指したダイレクトボンディングにおけるウェハ処理法
- 集積形光アイソレータを目指したダイレクトボンディングにおけるウェハ処理法
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- 超音波励起フェライトメッキ法によるNiZnフェライト膜の作製
- 超音波励起フェライトメッキ法による磁性膜の作製
- 超音波励起フェライトメッキ法による強磁性膜の作製
- Siの低温エピタキシャル成長におけるSiH_2Cl_2添加効果
- アゾベンゼン単分子膜を表面層とする液晶セルの特性評価
- アゾベンゼン単分子膜を表面層とする液晶セルの特性評価