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広島大学ナノデバイス・システム研究センター | 論文
- 多重ドットシリコン単電子トランジスタにおけるコトンネリング電流
- 多重ドットシリコン単電子トランジスタにおけるコトンネリング電流(単電子輸送,量子効果デバイス及び関連技術)
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- 高濃度ドープしたSi単電子トランジスタを使ったXOR回路の室温動作(多量量子ドットと機能性)
- 多重ドットSi単電子トランジスタにおける周期的なクーロン振動(多量量子ドットと機能性)
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- ダイナミック酸化膜電界ストレス下でのチャージポンピング電流に起因する界面トラップ形成(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- ZrO_2ゲート絶縁膜のアニール効果(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- p-MOSFETのための原子層成長Si窒化膜/SiO_2スタックゲート絶縁膜の研究
- シリコン熱酸化膜のホットエレクトロン耐性に及ぼす有機ガス汚染の影響
- 二重障壁極微細MOSトランジスタの電気伝導
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- 連想メモリベース適応学習LSIの応用とその評価(若手研究会)
- 新規変調プラズマによるSiH4/H2プラズマCVDリアクター内のダスト微粒子の抑制
- 大局的画像領域分割のためのデジタル方式抵抗ヒューズネットワークの設計とFPGAへの実装(システムオンシリコン設計技術並びにこれを活用したVLSI)
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- 3値多ポート連想メモリの開発とその応用例
- リングオシレータを用いた製造ばらつきの解析
- 超並列メモリエンベディッドSIMD型プロセッサアーキテクチャ