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広島大学ナノデバイス・システム研究センター | 論文
- 超並列メモリエンベディッドSIMD型プロセッサアーキテクチャ
- 連想メモリベース自動学習LSIアーキテクチャと手書き文字認識への適用
- 画像特徴を考慮したパラメータ自動調整による画像分割アルゴリズム改善
- 金属電極とハフニウム系高誘電率ゲート絶縁膜界面の実効仕事関数変調機構(シリコン関連材料の作製と評価)
- C-12-32 超並列SIMD型演算プロセッサMX-1への暗号化処理の実装(C-12.集積回路,一般セッション)
- CAMを有する超並列SIMD型演算プロセッサによる効果的なAES暗号化処理(超並列SIMDプロセッサ,先端的コンピュータシステム技術及び一般)
- MOSFETコンパクトモデルと今後の展開 : バルクMOSFETからマルチゲートMOSFETに向けて(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- 3値多ポート連想メモリの開発とその応用例
- リングオシレータを用いた製造ばらつきの解析
- 真空一貫原子制御PVDプロセスによるTiO_2/HfSiO/SiO_2積層構造 High-k 絶縁膜の作製と電気特性評価
- GeO_2/Ge界面形成の物理と電気特性改善技術(レギュラーセッション,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- C-12-27 微細CMOS技術におけるSRAMセルの安定性評価(C-12. 集積回路ACD(メモリ・電源・ばらつき),一般セッション)
- マルチポートメモリにおけるアクセス衝突回避処理のための新しい論理回路
- 1ポートメモリセルの階層構造による新しいマルチポートメモリアーキテクチャ
- 配線長を考慮したクラスタリングに基づくスタンダードセル階層配置手法(VLSIの設計/検証/テスト及び一般配置配線)
- 配線長を考慮したクラスタリングに基づくスタンダードセル階層配置手法(VLSIの設計/検証/テスト及び一般 配置配線)(デザインガイア2003 -VLSI設計の新しい大地を考える研究会-)
- 配線長を考慮したクラスタリングに基づくスタンダードセル階層配置手法
- 口腔内留置型健康モニタリングシステム開発
- 光触媒を用いたUV/光電子法による密閉空間の超清浄化
- サブ0.1μm MOSFETへの応用を目指した極浅接合形成における課題