スポンサーリンク
半導体先端テクノロジーズ | 論文
- TCADによる完全空乏型SOIトランジスタ設計(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- 簡易逆短チャネル効果モデルの検討 : 実デバイスへの適用
- 簡易逆短チャネル効果モデルの検討 : 実デバイスへの適用
- MOSFET開発におけるTCAD適用手法
- MOSFET開発におけるTCAD適用手法
- ドーパントパイルアップを考慮した簡易逆短チャネル効果モデルの検討
- ドーパントパイルアップを考慮した簡易逆短チャネル効果モデルの検討
- ドーパントパイルアップを考慮した簡易逆短チャネル効果モデルの検討
- インバースモデルシステムの開発と二次元プロファイル抽出(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- インバースモデルシステムの開発と二次元プロファイル抽出(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- Low-k材料とエッチング技術 (特集 半導体製造工程を変革する新プロセス技術) -- (最新トピックス1 新プロセス/新材料の導入)
- プラズマ重合法によるLow-k有機高分子膜成長技術とその応用( : 低誘電率層間膜及び配線技術)
- 低誘電率有機膜を用いたCuダマシン多層配線プロセス設計とその実証
- プラズマ重合BCB膜成長技術と銅ダマシン配線への適用
- 遺伝的アルゴリズムのテクノロジーCADへの応用
- 半導体CMP技術の課題と電気化学 (特集 化学機械研磨(CMP)プロセスにおける電気化学)
- 導電性カーボンパッドを用いたCu電解研磨技術 (特集:最近の興味深い将来加工技術)
- 第16回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議報告
- CMPモデルベースのダミーパターン設計システム
- CMPモデルベースのダミーパターン設計システム