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九大 産学連携セ | 論文
- 界面層にHfGeNおよびGeO_2を有するhigh-k膜/Ge構造の形成と電気的評価 : Ge基板への絶縁膜形成(レギュラーセッション,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- AIC法による低温多結晶シリコン薄膜形成挙動の微細構造解析(TFTの材料・デバイス技術・応用及び一般)
- アルミニウム誘起結晶化法による多結晶シリコン薄膜形成挙動のその場加熱観察
- アルミニウム誘起結晶化法による多結晶シリコン形成過程のその場加熱観察
- AIC法により作製された多結晶シリコン薄膜形成過程(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- 次世代ひずみSi-SGOIウエーハの微細組織観察
- ECRプラズマを活用した高品質絶縁膜の低温形成(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
- ECRプラズマを活用した高品質絶縁膜の低温形成(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
- 電子サイクロトロンプラズマを活用したシリコン薄膜及び極薄シリコン酸化膜の形成とその電気的評価
- 26aB13 ECRスパッタリングプラズマ制御による単結晶薄膜の成長(ヘリカル/プラズマ応用)
- CoSi_2ゲートMOS形トンネル電子放出素子の評価
- 極薄トンネル酸化膜の電気特性の膜厚依存性と熱処理効果およびFIBによるCoシリサイド微構造の低温形成
- シリコン中の鉄原子の再結合促進移動を利用した構造的に準安定な鉄-ボロン・ペアの生成
- パネルディスカッション(第40回石炭科学会議パネル討論会「石炭高度利用の実現と環境保全の調和」)
- 石炭高度利用の実現と環境保全の調和
- 石炭の高度利用を目指す科学・技術の動向 (特集 クリーンコールテクノロジー--環境に調和した石炭の高度利用)
- AIC法により作製された多結晶シリコン薄膜形成過程(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- AIC法により作製された多結晶シリコン薄膜形成過程(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- Electrical and Structural Properties of TaN Gate Electrodes Fabricated by Wet Etching Using NH_4OH/H_2O_2 Solution and Hf Metal Hard Mask
- ECRプラズマを活用した高品質絶縁膜の低温形成(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
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