赤坂 洋一 | 三菱電機LSI研究所
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概要
関連著者
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赤坂 洋一
三菱電機LSI研究所
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赤坂 洋一
三菱電機
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西村 正
三菱電機 (株) Ulsi技術開発センター
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西村 正
三菱電機株式会社ulsi技術開発センター
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西村 正
三菱電機 Ulsi開セ
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塚本 克博
三菱電機
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松本 隆夫
三菱電機
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西村 正
三菱電機(株)
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黒井 隆
三菱電機
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井上 靖朗
(株)ルネサステクノロジ先端デバイス開発部
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井上 靖朗
(株)ルネサステクノロジ
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須賀原 和之
三菱電機 Ulsi開研
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赤坂 洋一
三菱電機(株)LSI研究所
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小森 重樹
三菱電機
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石津 顕
三菱電機
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石津 顕
三菱電機(株)tft開発・事業化推進室
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黒井 隆
三菱電機(株)
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西村 正
三菱電機ULSI開発研究所
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塚本 克博
三菱電機株式会社 LSI 研究所
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須賀原 和之
三菱電機LSI研究所
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山口 泰男
三菱電機LSI研究所
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楠 茂
三菱電機LSI研究所
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井上 靖朗
三菱電機LSI研究所
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中屋 雅夫
三菱電機LSI研究所
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西村 正
三菱電機LSI研究所
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伊藤 博巳
三菱電機(株)
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山口 泰男
三菱電機(株)ulsi技術開発センター
-
山口 泰男
株式会社ルネサステクノロジ
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楠 茂
三菱電機株式会社ulsi開発研究所
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伊藤 博巳
三菱電機(株)lsi研究所
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松本 隆夫
三菱電機(株)材科研究所
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塚本 克博
三菱電機LSI研究所
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小森 重樹
三菱電機LSI研究所
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黒井 隆
三菱電機LSI研究所
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石津 顕
三菱電機(株)材料研究所
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赤坂 洋一
三菱電機株式会社LSI研究所
著作論文
- 画像信号処理の基本機能を有する三次元構造デバイス : "画像変換装置"合同研究会 : 電子装置 : 画像表示
- レ-ザ-再結晶化法によるSOI
- 3層構造三次元回路素子
- 光応用技術 : 光を励起源とする成膜技術 : 半導体工業における機械的基盤技術
- 4)高エネルギーイオン注入技術の半導体デバイスへの応用(情報入力研究会)
- 高エネルギーイオン注入技術の半導体デバイスへの応用 : 情報入力
- SiへのAsイオン注入(研究ノ-ト)
- ULSIデバイス技術
- 3次元IC開発の現状
- 薄膜SOI MOSデバイス
- 高集積,多機能デバイスとして姿が見えてきた3次元LSI
- SOI技術
- SOI技術による三次元回路素子 (エレクトロニクス技術を支える新素材) -- (応用事例)
- 2)石英基板上のポリシリコン薄膜トランジスタアレイ(画像表示研究会(第75回))
- 石英基板上のポリシリコン薄膜トランジスタアレイ
- (2-1-2 現状)(2.プロセス技術)(半導体集積技術の動向)
- 薄膜作製技術 (先端材料の新技術--開発・製造・評価) -- (材料化プロセス)