堀江 秀善 | 三菱化学科学技術研究センター

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概要

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関連著者

• 長尾 哲

  三菱化学科学技術研究センター

• 堀江 秀善

  三菱化学科学技術研究センター

• 藤岡 洋

  東京大学生産技術研究所

• 尾嶋 正治

  東大院工

• 尾嶋 正治

  東京大学大学院工学系研究科応用化学専攻

• 尾嶋 正治

  Jst-crest:東大院工

• 尾嶋 正治

  東京大学大学院工学系研究科

• 小林 篤

  東京大学大学院工学系研究科

• 下元 一馬

  東京大学生産技術研究所

• 上野 耕平

  東京大学生産技術研究所

• 太田 実雄

  東京大学生産技術研究所

• 天内 英貴

  三菱化学科学技術研究センター

• 尾嶋 正治

  Ntt電子応用研究所

• 藤岡 洋

  東京大学生産技術研究所:科学技術振興機構戦略的創造研究推進事業(jst-crest)

• Kobayashi Atsushi

  Department Of Applied Chemistry The University Of Tokyo

• 上野 耕平

  東大 生産技研

• 下元 一馬

  東大 生産技研

• 藤森 俊成

  三菱化学(株)オプトエレクトロニクス事業部

• 堀江 秀善

  三菱化学(株)オプトエレクトロニクス事業部

• 新居 信広

  三菱化学(株)オプトエレクトロニクス技術開発センター

• 小室 直之

  三菱化学(株)オプトエレクトロニクス技術開発センター

• 長尾 哲

  三菱化学(株)オプトエレクトロニクス技術開発センター

• 小室 直之

  三菱化学(株) オプトエレクトロニクス技術開発センター

• 藤森 俊成

  三菱化学(株) オプトエレクトロニクス技術開発センター

• 新居 信広

  三菱化学(株) オプトエレクトロニクス技術開発センター

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著作論文

• ZnO基板上への非極性面III族窒化物半導体の成長と評価(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
• ZnO基板上への非極性面III族窒化物半導体の成長と評価(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
• ZnO基板上への非極性面III族窒化物半導体の成長と評価(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
• 弱屈折率導波埋め込みストライプ型InGaAs歪量子井戸980nm帯半導体レーザの高出力動作特性
• 弱屈折率導波埋め込みストライプ型InGaAs歪量子井戸980nm帯半導体レーザの高出力動作特性

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