新村 紘和 | 東北大院理

スポンサーリンク

概要

• 新村 紘和の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 東北大院理の論文著者

関連著者

• 山田 太郎

  理研

• 須藤 彰三

  東北大院理

• 松下 ステファン悠

  東北大院理

• 新村 紘和

  東北大院理

• 川添 良幸

  東北大金研

• 粕谷 厚生

  東北大学工学部学際科学国際高等研究センター

• 瀧川 知昭

  東北大院理

• 芳賀 健也

  東北大院理

• 粕谷 厚生

  東北大学際

• 加藤 大樹

  東理大理

• 鈴木 貴幸

  東北大院理

• 姜 正敏

  東北大院理

• 梅津 新

  東北大院理

• Murugan P.

  東北大金研

• 川本 絵里奈

  東北大院理

もっと見る 閉じる

著作論文

• 26pPSB-28 水素終端Si(110)-(1×1)表面のSTM観察(26pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 18pFN-3 水素終端Si(111)-(1×1)表面の初期酸化過程(18pFN 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 28pJA-2 水素終端Si(110)-(1×1)表面の初期酸化過程(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))

スポンサーリンク