向田 昌志 | Nttシステムエレクトロニクス研究所:(現)山形大

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概要

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関連著者

• 向田 昌志

  Nttシステムエレクトロニクス研究所:(現)山形大

• 宮澤 信太郎

  Nttシステムエレクトロニクス研究所:(現)ウシオ総研

• 向田 昌志

  NTT LSI研

• 宮澤 信太郎

  NTT LSI研

• 宮澤 信太郎

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 笹浦 正弘

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 長島 健

  阪大レーザー研

• 萩行 正憲

  阪大レーザー研

• 長島 健

  阪大工

• 中島 信一

  産総研

• 中島 信一

  産技総研

• 阪井 清美

  情通機構関西

• 谷 正彦

  福井大学遠赤外領域開発研究センター

• 萩行 正憲

  阪大超伝導セ

• 中島 信一

  阪大工

• 谷 正彦

  通信総研関西

• 阪井 清美

  通信総研関西

• 中島 信一

  阪大工, 阪大超伝導セ

• 林 茂樹

  島津製作所基盤技術研究所

• 篠原 真

  島津製作所 表面・半導体機器部

• 西原 隆治

  島津製作所 表面・半導体機器部

• 石井 隆生

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 田雑 康夫

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• Ch Ludwig

  Max-Planck-Institute

• 笹浦 正弘

  NTT LSI研

• 篠原 真

  島津製作所

• 宮澤 信太郎

  早大

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著作論文

• GaN薄膜成長用基板結晶LiGaO_2の育成と評価 : バルク成長II
• 酸化物高温超伝導体薄膜のエピタキシーと基板結晶
• a軸配向YBCO薄膜のテラヘルツ波領域における面間電磁応答
• 高温超伝導薄膜のエピタキシャル方位制御
• 酸化物超伝導体YBa2Cu3Ox薄膜の方位制御成長
• 28p-APS-85 レーザー蒸着YBa_2Cu_3O_x薄膜におけるα軸配向粒の基板方位依存性
• 酸化物超伝導体薄膜用基板LnGaO_3(Ln:希土類)の育成と評価 : 超電導酸化物

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