笹浦 正弘 | NTT LSI研
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概要
関連著者
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笹浦 正弘
NTT LSI研
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笹浦 正弘
NTTシステムエレクトロニクス研究所
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香田 拡樹
NTT LSI研究所
-
中西 秀男
Ntt Lsi研究所
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宮澤 信太郎
NTT LSI研
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干川 圭吾
Ntt Lsi研究所
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曽根原 登
NTTヒューマンインタフェース研究所
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堀越 力
NTT ドコモ マルチメディア研究所
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秋本 高明
NTT ヒューマンインタフェース研究所
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堀越 力
NTTヒューマンインタフェース研究所
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今井 欽之
Nttフォトニクス研究所
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八木 生剛
NTTフォトニクス研究所
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向田 昌志
Nttシステムエレクトロニクス研究所:(現)山形大
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堀越 力
Nttサイバーソリューション研究所
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笹浦 正弘
NTTフォトニクス研究所
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樋口 和人
NTT
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山崎 裕基
NTT
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曽根原 登
NTT ヒューマンインタフェース研究所
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堀越 力
NTT HI研
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秋本 高明
NTTヒューマンインタフェース研究所
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八木生 剛
Nttサイバースペース研究所
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山崎 裕基
Nttエレクトロニクス(株)
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秋本 高明
ATR知能ロボティクス研究所
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向田 昌志
NTT LSI研
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曽根原 登
国立情報学研究所
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秋本 高明
Ntt
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秋本 高明
Ntt ヒューマンインタフェース研究所 映像処理研究部
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秋本 高明
Ntt電気通信研究所
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八木 生剛
NTTサイバースペース研究所
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Sonehara Noboru
The National Institute Of Informatics
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宮澤 信太郎
早大
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宮澤 信太郎
Nttシステムエレクトロニクス研究所:(現)ウシオ総研
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秋本 高明
Atr
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Akimoto Takaaki
Technology Research Department Ntt.
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八木 生剛
NTTアドバンステクノロジ株式会社
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八木 生剛
NTTアドバンステクノロジ(株)
著作論文
- D-11-152 LCDとフォトリフラクティブ結晶を用いた時分割再生による立体テレビ
- 酸化物超伝導体薄膜用基板LnGaO_3(Ln:希土類)の育成と評価 : 超電導酸化物
- 有限要素法によるLE-VB法結晶成長界面の解析
- LE-VB法B_2O_3の融液被覆効果
- 29aA10 NdGaO_3単結晶の育成と評価(融液成長IV)