笹浦 正弘 | NTTシステムエレクトロニクス研究所

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• 笹浦 正弘

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 笹浦 正弘

  NTT LSI研

• 香田 拡樹

  NTT LSI研究所

• 向田 昌志

  Nttシステムエレクトロニクス研究所:(現)山形大

• 中西 秀男

  Ntt Lsi研究所

• 宮澤 信太郎

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• 宮澤 信太郎

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• 干川 圭吾

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• 宮澤 信太郎

  早大

• 宮澤 信太郎

  Nttシステムエレクトロニクス研究所:(現)ウシオ総研

• 田雑 康夫

  NTTシステムエレクトロニクス研究所

• 向田 昌志

  NTT LSI研

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著作論文

• 酸化物高温超伝導体薄膜のエピタキシーと基板結晶
• 酸化物超伝導体薄膜用基板LnGaO_3(Ln:希土類)の育成と評価 : 超電導酸化物
• 有限要素法によるLE-VB法結晶成長界面の解析
• LE-VB法B_2O_3の融液被覆効果
• 引上げ法によるPrSrGaO_4単結晶育成における成長の不安定性
• 29aA10 NdGaO_3単結晶の育成と評価(融液成長IV)

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