宮澤 信太郎 | Nttシステムエレクトロニクス研究所:(現)ウシオ総研
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概要
関連著者
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向田 昌志
Nttシステムエレクトロニクス研究所:(現)山形大
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宮澤 信太郎
Nttシステムエレクトロニクス研究所:(現)ウシオ総研
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向田 昌志
NTT LSI研
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宮澤 信太郎
NTT LSI研
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宮澤 信太郎
NTTシステムエレクトロニクス研究所
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笹浦 正弘
NTTシステムエレクトロニクス研究所
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長島 健
阪大レーザー研
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萩行 正憲
阪大レーザー研
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長島 健
阪大工
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中島 信一
産総研
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中島 信一
産技総研
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阪井 清美
情通機構関西
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谷 正彦
福井大学遠赤外領域開発研究センター
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萩行 正憲
阪大超伝導セ
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中島 信一
阪大工
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谷 正彦
通信総研関西
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阪井 清美
通信総研関西
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中島 信一
阪大工, 阪大超伝導セ
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林 茂樹
島津製作所基盤技術研究所
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篠原 真
島津製作所 表面・半導体機器部
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西原 隆治
島津製作所 表面・半導体機器部
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石井 隆生
NTTシステムエレクトロニクス研究所
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田雑 康夫
NTTシステムエレクトロニクス研究所
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Ch Ludwig
Max-Planck-Institute
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笹浦 正弘
NTT LSI研
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篠原 真
島津製作所
著作論文
- GaN薄膜成長用基板結晶LiGaO_2の育成と評価 : バルク成長II
- 酸化物高温超伝導体薄膜のエピタキシーと基板結晶
- a軸配向YBCO薄膜のテラヘルツ波領域における面間電磁応答
- 高温超伝導薄膜のエピタキシャル方位制御
- 28p-APS-85 レーザー蒸着YBa_2Cu_3O_x薄膜におけるα軸配向粒の基板方位依存性
- 酸化物超伝導体薄膜用基板LnGaO_3(Ln:希土類)の育成と評価 : 超電導酸化物