深谷 俊夫 | 産総研
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概要
関連著者
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深谷 俊夫
産総研
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深谷 俊夫
東京工業大学
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深谷 俊夫
産業技術総合研究所電子光技術研究部門
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小高 正人
化技研
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富永 淳二
独立行政法人産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
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遠藤 理恵
東京工業大学大学院理工学研究科
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須佐 匡裕
東京工業大学
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須佐 匡裕
東京工業大学工学部
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富永 淳二
産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
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深谷 俊夫
産業技術総合研究所
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富永 淳二
産総研近接場光応用光学セ
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桑原 正史
(独)産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
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須佐 匡裕
東京工大
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吉川 正義
化技研
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河村 直己
JASRI, SPring-8
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島 隆之
独立行政法人産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
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大沢 仁志
JASRI
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大澤 仁志
JASRI SPring-8
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鈴木 基寛
高輝度光科学研究センター
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河村 直己
高輝度光セ
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鈴木 基寛
(財)高輝度光科学研究センター
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鈴木 基寛
Jasri Spring-8
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谷田 肇
JASRI SPring-8
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河村 直巳
JASRI
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谷田 肇
高輝度光科学研究センター
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大沢 仁志
高輝度光科学研究センター
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宇留賀 朋哉
JASRI
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高垣 昌史
JASRI
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川村 直己
JASRI SPring-8
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高垣 昌史
高輝度光科学研究センター
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高垣 昌史
高輝度光科学研究センター利用研究促進部門
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谷田 肇
財団法人高輝度光科学研究センター
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宇留賀 朋哉
高輝度光科学研究センター
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宇留賀 朋哉
高輝度光科学研究セ
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谷田 肇
Jasri
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谷田 肇
(財)高輝度光科学研究センター 利用促進部門
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Fons Paul
産総研
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宇留賀 朋哉
財団法人高輝度光科学研究センター
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遠藤 理恵
東工大理工
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須佐 匡裕
東工大理工
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桑原 正史
産総研
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TANIDA Hajime
Japan Synchrotron Radiation Research Institute
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遠藤 理恵
東京工業大学
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鶴岡 徹
物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス
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谷田 肇
(財)高輝度光科学研究センター
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河村 直己
Jasri
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本田 捷夫
東京工業大学工学部像情報工学研究施設
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辻内 順平
東京工業大学像情報工学研究施設
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本田 捷夫
千葉大学工学部画像工学科
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辻内 順平
千葉大学工学部画像工学科
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遠藤 智義
(株)サーモ理工
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桑原 正史
産業技術総合研究所光技術研究部門
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本田 捷夫
東京工業大学工学部
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鈴木 道夫
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社
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Tanida Hajime
Materials Sci. Div. Japan Synchrotron Radiation Res. Inst.
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Tanida Hajime
Materials Science Division Japan Synchrotron Radiation Research Institute
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Tanida Hajime
Experimental Facilities Division Japan Synchrotron Radiation Research Institute
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富永 淳二
産総研近接場光応用工学研究センター
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島 隆之
産総研近接場光応用工学研究センター
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堤 浩一
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン
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河村 直已
高輝度光科学研究センター
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辻内 順平
東京工業大学
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辻内 順平
東工大工
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須佐 匡裕
東工大・工
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田所 利康
(有)テクノ・シナジー
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Tanida H
Japan Synchrotron Radiation Research Institute
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Tanida Hajime
Spring-8 Japan Synchrotron Radiation Research Institute (jasri)
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富永 淳二
産総研ナノエレ部門
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鶴岡 徹
独立行政法人物質・材料研究機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
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森笠 福好
(株)サーモ理工
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鈴木 道夫
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン(株)
-
田所 利康
(有)テクノシナジー
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桑原 正史
産業技術総合研究所電子光技術研究部門
-
本田 捷夫
東京工業大学 工学部像情報工学研究施設
-
島 隆之
独立行政法人産業技術総合研究所
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桑原 正史
産業技術総合研究所
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富永 淳二
産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
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鈴木 基寛
JASRI
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富永 淳二
産総研ナノエレクトロニクス研究部門
著作論文
- 23pPSB-1 レーザー・放射光同期による時間分解X線吸収分光(領域5ポスターセッション,領域5,光物性)
- ホログラフィーによる画像の鮮明化(II) : 画像工学シンポジウム
- 熔融Ge-Sb-Te合金の反射光強度測定
- SC-1-2 平板型多層膜レンズの光波伝搬特性(SC-1.光新技術の理論的課題 : 近接場ナノ光学・フォトニック結晶・負屈折率媒質)
- 非線形光学特性と表面増強ラマン散乱への応用 (特集 次世代光基盤研究--近接場光の応用技術)
- 分子軌道法による分子性材料の光学特性の計算
- β-グルコシダ-ゼのモデル化--糖誘導体のカチオン型ミセルへの取り込みと円偏光2色性スペクトル
- 疎水性化合物に対するホストとしてのテトラオキソテトラアザパラシクロファン
- Cyclo(Gly-Pro-Gly)2と金属イオンとの錯体形成
- ヘプチルビオロ-ゲンとシクロデキストリンとの錯体形成
- 疎水性会合体系におけるp-ニトロフェニルヘキサン酸の加水分解反応
- ギ酸脱水素酵素を用いた炭酸ガスの光還元
- 原子・分子の2次元適正配列のシミュレ-ション--2次元駐車問題の計算機実験
- ビオロ-ゲン誘導体による炭酸ガスのギ酸への電気化学的還元
- カルボキシビオチンモデルによるインデンおよびピルビン酸エチルのカルボキシル化
- Rh(bpy)3〓3+を触媒とするCO2の電気化学的還元
- 電子線中間調画像描画実験装置の試作
- X線画像変換素子用熱発光体の調整条件
- 薄膜の膜厚方向屈折率分布の測定法
- 感光材料の表面凹凸変化のMTF
- 微粒子付着法による微細立体構造の測定法--ランダム・キャリヤ・ステレオ写真の走査電子顕微鏡への応用
- 走査電子顕微鏡ステレオ写真の撮影条件と立体視感
- 高温溶融状態の光ディスク材料複素屈折率測定