富永 淳二 | 産総研近接場光応用光学セ
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概要
関連著者
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富永 淳二
産総研近接場光応用光学セ
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富永 淳二
産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
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富永 淳二
独立行政法人産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
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中野 隆志
独立行政法人産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
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島 隆之
独立行政法人産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
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桑原 正史
(独)産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
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桑原 正史
産業技術総合研究所電子光技術研究部門
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島 隆之
独立行政法人産業技術総合研究所
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富永 淳二
産総研近接場光応用工学研究センター
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富永 淳二
(独)産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
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フォンズ ポール
(独)産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
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コロボフ アレキサンダー
(独)産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
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島 隆之
産総研近接場光応用工学研究センター
-
フォンズ ポール
産総研近接場光応用工学研究センター
-
コロボフ アレキサンダー
産総研近接場光応用工学研究センター
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桑原 正史
産総研近接場光応用工学研究センター
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中野 隆志
産総研近接場光応用工学研究センター
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桑原 正史
(独)産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
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島 隆之
(独)産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
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長谷 宗明
物質・材料研究機構 材料研究所
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藤 寛
シャープ(株)デバイス技術研究所
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長谷 宗明
筑波大数物
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富永 淳二
独立行政法人 産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
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桑原 正史
(独)産業技術総合研究所
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富永 淳二
産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
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長谷 宗明
物・材機構 材料研
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島 隆之
独立行政法人 産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
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大牧 正幸
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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中井 賢也
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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竹下 伸夫
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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篠田 昌久
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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HYOT Berangere
CEA-LETI, MINATEC
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ANDRE Bernard
CEA-LETI, MINATEC
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POUPINET Ludovic
CEA-LETI, MINATEC
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竹下 伸夫
三菱電機株式会社 電子商品開発研究所
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深谷 俊夫
産総研
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深谷 俊夫
東京工業大学
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長谷 宗明
筑波大数物科学
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藤 寛
シャープ(株)
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富永 淳二
工業技術院産業技術融合領域研究所次世代光基盤研究グループ
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中野 隆志
工業技術院産業技術融合領域研究所次世代光基盤研究グループ
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阿刀田 伸史
工業技術院産業技術融合領域研究所次世代光基盤研究グループ
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Andre Bernard
Cea-leti Minatec
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Hyot Berangere
Cea-leti Minatec
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中野 隆志
工業技術院産業技術融合領域研究所
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牧野 孝太郎
筑波大数理物質
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長谷 宗明
筑波大数理物質
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宮本 恵信
筑波大数物
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Takeshita Nobuo
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
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中野 隆志
独立行政法人 産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
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Poupinet Ludovic
Cea-leti Minatec
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篠田 昌久
三菱電機(株) 先端技術総合研究所
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富永 淳二
産総研ナノエレ部門
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長谷 宗明
筑波大数理
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牧野 孝太郎
筑波大数理
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竹下 伸夫
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
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中井 賢也
三菱電機(株)先端技術総合研究所
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深谷 俊夫
産業技術総合研究所電子光技術研究部門
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竹下 伸夫
三菱電機株式会社先端技術総合研究所ストレージ機器開発プロジェクトグループ光ディスク技術グループ
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大牧 正幸
三菱電機株式会社先端技術総合研究所映像伝送蓄積技術部
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富永 淳二
産総研ナノエレクトロニクス研究部門
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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野中 倫明
東京都立大塚病院 外科
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遠藤 理恵
東京工業大学大学院理工学研究科
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遠藤 理恵
東工大理工
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須佐 匡裕
東工大理工
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桑原 正史
産総研
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須佐 匡裕
東京工業大学
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須佐 匡裕
東京工業大学工学部
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菊川 隆
Tdk (株) レコーディングメディア & ソリュションズビジネスグループ
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桑原 正史
工業技術院産業技術融合領域研究所次世代光基盤研究グループ
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桑原 正史
独立行政法人産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
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深谷 俊夫
産業技術総合研究所
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中野 隆志
産業技術総合研究所次世代光工学研究ラボ
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藤 寛
工業技術院産業技術融合領域研究所次世代光基盤研究グループ
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須佐 匡裕
東工大・工
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本間 克則
セイコーインスツルメンツ(株)rdセンター
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須佐 匡裕
東京工大
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Fons Paul
産総研ナノエレ部門
-
Klobov Alexander
産総研ナノエレ部門
著作論文
- 次世代高密度光ディスクを用いた多チャンネル高精細映像再生システム(映像情報機器および一般)
- DVDの書き換え原理 : 結晶-アモルファス相転移のメカニズム
- 相変化記録膜の光超解像現象 : 巨大光学非線形現象の解明から次世代メモリーへ
- 11.超解像近接場構造Super-RENS技術による超高密度近接場光メモリ(大容量化が進むストレージ技術)
- 応力状態下における相変化記録膜の特性と光超解像効果
- 応力状態下における相変化記録膜の特性と光超解像効果
- 応力状態下における相変化記録膜の特性と光超解像効果(光記録及び一般)
- 応力状態下における相変化記録膜の特性と光超解像効果(光記録及び一般)
- 応力状態下における相変化記録膜の特性と光超解像効果
- スーパーレンズディスクの超解像再生機構における熱効果
- スーパーレンズディスクの再生機構における熱効果 : 超解像現象への新たな提案
- スーパーレンズディスクの再生機構における熱効果 : 超解像現象への新たな提案
- スーパーレンズディスクの再生機構における熱効果 : 超解像現象への新たな提案(光記録及び一般)
- スーパーレンズディスクの再生機構における熱効果 : 超解像現象への新たな提案(光記録及び一般)
- 酸化白金薄膜を用いた超解像光記録
- 超解像光技術 : その超高密度光ディスクへの応用
- 超解像近接場構造を用いた光記録技術
- 光超解像法と近接場光を組み合わせた超高密度記録再生の可能性
- ナノ金属微粒子による反射防止レンズの安価な生産技術 (特集 高品質・高生産性のための最新金型技術)
- 次世代高密度光ディスクを用いた多チャンネル高精細映像再生システム(映像情報機器及び一般)
- ニアフィ-ルド記録の新方式 ス-パ-レンズ (特集 最新デ-タストレ-ジ操縦法(2))
- レーザー熱リソグラフィー法によるナノ微細金型の開発 (特集 高品質・高生産性のための最新金型技術)
- ナノテク最前線 レーザー熱リソグラフィーによるナノ加工技術の展開--高速・大面積・低コスト化ナノ加工法
- ついに解明!DVDの高速書き換え原理--結晶-アモルファス相転移のメカニズム
- 熔融Ge-Sb-Te合金の反射光強度測定
- SC-1-2 平板型多層膜レンズの光波伝搬特性(SC-1.光新技術の理論的課題 : 近接場ナノ光学・フォトニック結晶・負屈折率媒質)
- スーパーレンズの原理と最近の研究状況について
- 超高密度100GB光ディスク原盤の形状評価装置の開発--原子間力顕微鏡と光ディスク評価装置を一体化
- 27pXB-7 相変化記録材料Ge_2Sb_2Te_5におけるコヒーレントフォノンのダブルパルス制御(超高速現象,領域5,光物性)
- 20aYG-7 Ge_2Sb_2Te_5超格子における閉じ込めコヒーレント光学フォノンの実時間観測(20aYG 超高速現象,領域5(光物性))
- 26aPS-32 DVD記録膜材料Ge_2Sb_2Te_5におけるコヒーレント光学フォノンの実時間観測(ポスターセッション,領域5,光物性)
- 次世代ストレージ・メモリの最新動向
- 表面プラズモン励起・光散乱型スーパーレンズ (特集:光記録技術・最新情報)
- 21aRB-12 相変化記録膜材料Ge_2Sb_2Te_5におけるコヒーレントフォノン誘起相変化の偏光依存性(21aRB 超高速現象,領域5(光物性))