応力状態下における相変化記録膜の特性と光超解像効果
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概要
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- 2005-02-25
著者
-
島 隆之
独立行政法人産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
-
中野 隆志
独立行政法人産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
-
富永 淳二
独立行政法人産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
-
フォンズ ポール
(独)産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
-
コロボフ アレキサンダー
(独)産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
-
富永 淳二
産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター
-
富永 淳二
産総研近接場光応用工学研究センター
-
フォンズ ポール
産総研近接場光応用工学研究センター
-
コロボフ アレキサンダー
産総研近接場光応用工学研究センター
-
桑原 正史
産総研近接場光応用工学研究センター
-
島 隆之
産総研近接場光応用工学研究センター
-
中野 隆志
産総研近接場光応用工学研究センター
-
富永 淳二
産総研近接場光応用光学セ
-
桑原 正史
(独)産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
-
桑原 正史
産業技術総合研究所電子光技術研究部門
-
島 隆之
独立行政法人産業技術総合研究所
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