桑原 正史 | (独)産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
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概要
関連著者
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桑原 正史
(独)産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
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須佐 匡裕
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須佐 匡裕
東京工大
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遠藤 理恵
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東工大理工
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桑原 正史
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深谷 俊夫
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シャープ(株)
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田中 大輝
慶應義塾大学大学院理工学研究科
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藤 寛
シャープ(株)デバイス技術研究所
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鈴木 道夫
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社
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Tominaga J
Center For Applied Near-field Optics Research (can-for) Aist
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Tominaga J
Chikumagawa The 1st Technical Center Tdk
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Center for Applied Near-Field Optics Research (CAN-FOR), AIST
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深谷 俊夫
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Digital Media R&d Center Samsung Electronics Co. Ltd.
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YOON Duseop
Digital Media R&D Center, Samsung Electronics Co., Ltd.
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独立行政法人 産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
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独立行政法人 産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センター
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産業技術総合研究所電子光技術研究部門
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(株)サーモ理工
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鈴木 道夫
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン(株)
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(有)テクノシナジー
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慶應義塾大学理工学部
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慶應義塾大学理工学部
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(独)産業技術総合研究所
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桑原 正史
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梨本 恵一
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浅倉 秀明
慶應義塾大学大学院理工学研究科
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- 応力状態下における相変化記録膜の特性と光超解像効果
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