富永 淳二 | 産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門

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関連著者

• 富永 淳二

  産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門

• 富永 淳二

  独立行政法人産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター

• 富永 淳二

  産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター

• 富永 淳二

  産総研近接場光応用光学セ

• 中野 隆志

  独立行政法人産業技術総合研究所近接場光応用工学研究センター

• 深谷 俊夫

  産総研

• 深谷 俊夫

  東京工業大学

• 深谷 俊夫

  産業技術総合研究所

• 中野 隆志

  産業技術総合研究所次世代光工学研究ラボ

• 長谷 宗明

  筑波大数物

• 牧野 孝太郎

  筑波大数理物質

• 深谷 俊夫

  産業技術総合研究所電子光技術研究部門

• 長谷 宗明

  筑波大学数理物質系

• 牧野 孝太郎

  筑波大学大学院数理物質科学研究科

• 長谷 宗明

  物・材機構 材料研

• 富永 淳二

  産業技術総合研究所

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著作論文

• 相変化記録膜の光超解像現象 : 巨大光学非線形現象の解明から次世代メモリーへ
• 超解像近接場構造を用いた光記録技術
• SC-1-2 平板型多層膜レンズの光波伝搬特性(SC-1.光新技術の理論的課題 : 近接場ナノ光学・フォトニック結晶・負屈折率媒質)
• 次世代ストレージ・メモリの最新動向
• 相変化光記録膜材料のコヒーレントフォノン分光と超高速光誘起構造変化(最近の研究から)

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