鳥塚 健二 | 産業技術総合研究所光技術研究部門
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概要
関連著者
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鳥塚 健二
電総研
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鳥塚 健二
産業技術総合研究所光技術研究部門
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産業技術総合研究所光技術研究部門
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芝浦工業大学工学部
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芝浦工大
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芝浦工業大学
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小原 實
慶應義塾大学
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(株)バートン
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(独)産業技術総合研究所
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産業技術総合研究所光技術研究部門
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電子技術総合研究所
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欠端 雅之
電子技術総合研究所
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産業技術総合研究所 光技術研究部門
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木村 龍実
産業技術総合研究所光技術研究部門
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高宮 浩彰
芝浦工業大学
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西嶋 一樹
芝浦工業大学
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三浦 泰祐
慶大理工
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上田 朗可
ソニー(株)
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相田 繁夫
(株)バートン
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JARUSIRISAWAD Songkran
(株)バートン
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森 雅彦
産業技術総合研究所
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小原 實
慶應義塾大学 電子工学科
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中川 格
電子技術総合研究所
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菅谷 武芳
電総研
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菅谷 武芳
電子技術総合研究所:科学技術振興事業団、戦略的基礎研究推進事業(crest)
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独立行政法人 産業技術総合研究所
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独立行政法人 産業技術総合研究所
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独立行政法人 産業技術総合研究所
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芝浦工業大学
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理化学研究所レーザー物理工学研究室
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慶大理工
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須田 亮
理化学研究所レーザー物理工学研究室
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理化学研究基幹研究所エクストリームフォトニクス研究グループ
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遠藤 彰
フェムト秒テクノロジー研究機構
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小林 克行
Sumitomo Heavy Industries (usa) Inc.
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酒井 文雄
フェムト秒テクノロジー研究機構
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宮崎 健創
電総研
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菅谷 武芳
電子技術総合研究所
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須田 亮
防衛医科大医用電子
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須田 亮
理研
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須田 亮
東京理科大学理工学部物理学科
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張 志剛
フェムト秒テクノロジー研究機構
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鳥塚 健二
工業技術院電子技術総合研究所
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高田 英行
工業技術院電子技術総合研究所
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欠端 雅之
工業技術院電子技術総合研究所
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板谷 太郎
工業技術院電子技術総合研究所
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菅谷 武芳
工業技術院電子技術総合研究所
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中川 格
工業技術院電子技術総合研究所
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張志 剛
新エネルギー・産業技術総合開発機構
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小林 克行
研究組合フェムト秒テクノロジー研究機構
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高田 英行
電総研レーザー研
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欠端 雅之
電総研
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上田 朗可
慶大理工
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宮崎 健創
電子技術総合研究所
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高田 英行
電総研 レーザー研
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須田 亮
理化学研究所
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須田 亮
東京理科大学 理工学部物理学科
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南部 太郎
フェムト秒テクノロジー研究機構
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緑川 克美
理化学研究所 基幹研究所 エクストリームフォトニクス研究グループ
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遠藤 彰
早稲田大学
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遠藤 彰
チェコ科学アカデミーHiLaseプロジェクト:早稲田大学理工学術院
著作論文
- 体積走査型三次元ディスプレイに関する我々の取り組み(招待講演I,高臨場感ディスプレイフォーラム2008)
- 体積走査型三次元ディスプレイに関する我々の取り組み(高臨場感ディスプレイフォーラム2008)
- キャリヤーエンベロープ位相制御による光電場の時間波形制御
- SC-4-2 半導体可飽和吸収ミラーによるモード同期制御
- フェムト秒光パルス発生技術の現状と課題
- 3-1 フェムト秒高輝度X線パルス発生装置(3.フェムト秒光源(次世代産業基盤を支えるフェムト秒テクノロジーの動向))
- キャリアエンベロープ位相安定化チャープパルス増幅システム
- キャリアエンベロープ位相シフトと波形制御が可能なチャープパルス増幅システム
- キャリアエンベロープ位相安定化チャープパルス増幅システム
- 体積走査型三次元ディスプレイに関する我々の取り組み
- 29a-PS-147 レーザー・コンプトン散乱のための時間安定化フェムト秒レーザー
- 28a-YQ-12 フェムト秒レーザーのパルスタイミング安定化
- 12fsチタンサファイアチャープパルス再生増幅システム
- 超広帯域光発生とフェムト秒レーザーパルスのキャリアエンベロープ位相変化計測
- 時間的に偏光状態が変化する高強度フェムト秒レーザーパルスの発生
- 時間的に偏光状態が変化する高強度フェムト秒レーザーパルスの発生
- スペクトル干渉による増幅パルスのキャリアエンベロープ位相変化のシングルショット計測
- LQE2000-21 時間的に偏光状態が変化する高強度フェムト秒レーザーパルスの発生
- 10TW級10fsチタンサファイアレーザー設計の検討
- フェムト秒レーザーパルスの組み合わせによるパルスの偏光制御
- マルチテラワットチタンサファイアレーザーシステムの設計と製作
- 30a-YL-6 コンプトン散乱によるフェムト秒X線発生 : フェムト秒レーザーの時間安定化
- 波長1.3μmにおけるフェムト秒光パルス発生
- アト秒光パルスの発生 : 展望と課題
- 極短パルスモード同期固体レーザー