宮崎 健創 | 電子技術総合研究所
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概要
関連著者
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宮崎 健創
電子技術総合研究所
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高田 英行
産業技術総合研究所
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高田 英行
独立行政法人 産業技術総合研究所
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高田 英行
産業技術総合研
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宮崎 健創
電総研
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欠端 雅之
電子技術総合研究所
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高田 英行
電子技術総合研究所
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植村 禎夫
電子技術総合研究所
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鳥塚 健二
電子技術総合研究所
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佐藤 正純
日立金属(株)技術本部
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佐藤 正純
日立金属(株)vbセンター
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牧尾 諭
日立金属(株)磁性材料研究所
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高田 英行
電総研レーザー研
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鳥塚 健二
電総研
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欠端 雅之
電総研 レーザー研
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湯本 速巨
日工大
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高田 英行
電総研 レーザー研
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宮崎 健創
電総研 レーザー研
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宮崎 健創
電総研レーザー研
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欠端 雅之
産業技術総合研究所光技術研究部門
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安藤 哲生
(株)日立製作所 中央研究所
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鳥塚 健二
産業技術総合研究所光技術研究部門
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鳥塚 健二
独立行政法人産業技術総合研究所 光技術部門 超短パルスレーザーグループ
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宮崎 健創
電総研レーザ
著作論文
- マルチテラワットチタンサファイアレーザーシステムの設計と製作
- 高次高調波発生の基本波パルス幅への依存性
- フラッシュランプ励起Cr:LiSAFレーザー増幅器
- 高強度フェムト秒Ti : Al_2O_3レーザーによる高次高調波発生過程
- トンネル領域での高次高調波発生における相互作用強度
- LD励起Cr : LiSAFレーザによる青色SHG
- 連続発振Cr : LiSAFレーザーの熱発生に関する解析
- 自己モード同期Cr : LiSAFレーザーの特性
- 高強度レーザーパルスによるコヒーレント軟X線の発生
- 高強度フェムト秒レ-ザ-パルスの発生とその応用
- 新しい光源と分光応用-1-波長可変真空紫外レ-ザ-とその応用