高田 英行 | 産業技術総合研
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概要
関連著者
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高田 英行
産業技術総合研究所
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高田 英行
産業技術総合研
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高田 英行
独立行政法人 産業技術総合研究所
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鳥塚 健二
電総研
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欠端 雅之
産業技術総合研究所光技術研究部門
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鳥塚 健二
産業技術総合研究所光技術研究部門
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鳥塚 健二
独立行政法人産業技術総合研究所 光技術部門 超短パルスレーザーグループ
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小林 洋平
産業技術総合研究所
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小林 洋平
産業技術総合研
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鳥塚 健二
産業技術総合研究所
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産業技術総合研究所
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欠端 雅之
産業技術総合研
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高橋 英郎
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高田 英行
電子技術総合研究所
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小林 洋平
電子技術総合研究所
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本間 哲哉
芝浦工業大学
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欠端 雅之
電子技術総合研究所
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本間 哲哉
芝浦工業大学工学部
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鳥塚 健二
電子技術総合研究所
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高橋 英郎
芝浦工大
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高宮 浩彰
芝浦工業大学
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西嶋 一樹
芝浦工業大学
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宮崎 健創
電子技術総合研究所
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小原 實
慶應義塾大学 理工学部電子工学科
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小原 實
慶應義塾大学
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鳥塚 健二
独立行政法人 産業技術総合研究所
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上田 朗可
ソニー(株)
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小原 實
慶應義塾大学 電子工学科
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中川 格
電子技術総合研究所
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菅谷 武芳
電総研
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菅谷 武芳
電子技術総合研究所:科学技術振興事業団、戦略的基礎研究推進事業(crest)
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板谷 太郎
電子技術総合研究所
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張 志剛
NEDO
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欠端 雅之
独立行政法人 産業技術総合研究所
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小林 洋平
独立行政法人 産業技術総合研究所
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藤平 好彦
芝浦工業大学
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高田 英行
電総研 レーザー研
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板谷 太郎
電子技術総合研究所 電子デバイス部
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小原 實
慶大理工
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小林 克行
フェムト秒テクノロジー研究機構
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宮崎 健創
電総研
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菅谷 武芳
電子技術総合研究所
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張 志剛
フェムト秒テクノロジー研究機構
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鳥塚 健二
工業技術院電子技術総合研究所
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高田 英行
工業技術院電子技術総合研究所
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欠端 雅之
工業技術院電子技術総合研究所
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板谷 太郎
工業技術院電子技術総合研究所
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菅谷 武芳
工業技術院電子技術総合研究所
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中川 格
工業技術院電子技術総合研究所
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張志 剛
新エネルギー・産業技術総合開発機構
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小林 克行
研究組合フェムト秒テクノロジー研究機構
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高田 英行
電総研レーザー研
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欠端 雅之
電総研
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上田 朗可
慶大理工
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欠端 雅之
電総研 レーザー研
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湯本 速巨
日工大
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宮崎 健創
電総研 レーザー研
著作論文
- SC-4-2 半導体可飽和吸収ミラーによるモード同期制御
- フェムト秒光パルス発生技術の現状と課題
- キャリアエンベロープ位相安定化チャープパルス増幅システム
- 光電場波形制御用キャリア—エンベロープ位相シフター
- キャリアエンベロープ位相シフトと波形制御が可能なチャープパルス増幅システム
- キャリアエンベロープ位相安定化チャープパルス増幅システム
- フェムト砂パルスレーザー光のキャリア--エンベロープ位相計測と制御 (特集 フェムト秒パルスレーザーによる新しい展開)
- 12fsチタンサファイアチャープパルス再生増幅システム
- 超広帯域光発生とフェムト秒レーザーパルスのキャリアエンベロープ位相変化計測
- 時間的に偏光状態が変化する高強度フェムト秒レーザーパルスの発生
- 極限時間域でのパルス光発生・制御
- 時間的に偏光状態が変化する高強度フェムト秒レーザーパルスの発生
- スペクトル干渉による増幅パルスのキャリアエンベロープ位相変化のシングルショット計測
- LQE2000-21 時間的に偏光状態が変化する高強度フェムト秒レーザーパルスの発生
- 10TW級10fsチタンサファイアレーザー設計の検討
- フェムト秒レーザーパルスの組み合わせによるパルスの偏光制御
- マルチテラワットチタンサファイアレーザーシステムの設計と製作
- 高次高調波発生の基本波パルス幅への依存性
- フラッシュランプ励起Cr:LiSAFレーザー増幅器
- 高強度フェムト秒Ti : Al_2O_3レーザーによる高次高調波発生過程
- 超短パルスの電場位相をそろえてみよう : 電場位相同期レーザー