キャリヤーエンベロープ位相制御による光電場の時間波形制御
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2007-02-10
著者
-
小林 洋平
産業技術総合研究所
-
小林 洋平
産業技術総合研
-
鳥塚 健二
産業技術総合研究所
-
欠端 雅之
産業技術総合研究所
-
鳥塚 健二
電総研
-
欠端 雅之
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
小林 洋平
電子技術総合研究所
-
鳥塚 健二
産業技術総合研究所光技術研究部門
-
鳥塚 健二
独立行政法人産業技術総合研究所 光技術部門 超短パルスレーザーグループ
-
欠端 雅之
産業技術総合研
関連論文
- 体積走査型三次元ディスプレイに関する我々の取り組み(招待講演I,高臨場感ディスプレイフォーラム2008)
- 体積走査型三次元ディスプレイに関する我々の取り組み(高臨場感ディスプレイフォーラム2008)
- 空中に3D映像を描く
- キャリヤーエンベロープ位相制御による光電場の時間波形制御
- 22pYD-2 高繰り返しコヒーレント軟X線光源の開発(22pYD 領域5,領域1合同シンポジウム:「未踏波長領域における新コヒーレント光源への期待」,領域5(光物性))
- 22pYD-2 高繰り返しコヒーレント軟X線光源の開発(22pYD 領域5,領域1合同シンポジウム:未踏波長領域における新コヒーレント光源への期待,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 超短パルスレーザーの精密制御技術
- フェムト秒パルスのフーリエ合成による任意光電場波形生成
- SC-4-2 半導体可飽和吸収ミラーによるモード同期制御
- フェムト秒光パルス発生技術の現状と課題
- 3-1 フェムト秒高輝度X線パルス発生装置(3.フェムト秒光源(次世代産業基盤を支えるフェムト秒テクノロジーの動向))
- 28pSA-4 フーリエ合成による任意電場波形生成(28pSA 領域1シンポジウム:超精密計測が拓く原子・分子・光(AMO)科学の最前線,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- キャリアエンベロープ位相安定化チャープパルス増幅システム
- 光電場波形制御用キャリア—エンベロープ位相シフター
- キャリアエンベロープ位相シフトと波形制御が可能なチャープパルス増幅システム
- キャリアエンベロープ位相安定化チャープパルス増幅システム
- フェムト砂パルスレーザー光のキャリア--エンベロープ位相計測と制御 (特集 フェムト秒パルスレーザーによる新しい展開)
- 体積走査型三次元ディスプレイに関する我々の取り組み
- 体積走査型三次元ディスプレイに関する我々の取り組み
- 29a-PS-147 レーザー・コンプトン散乱のための時間安定化フェムト秒レーザー
- 28a-YQ-12 フェムト秒レーザーのパルスタイミング安定化
- CLEO/QELS 2000報告
- 12fsチタンサファイアチャープパルス再生増幅システム
- 超広帯域光発生とフェムト秒レーザーパルスのキャリアエンベロープ位相変化計測
- 時間的に偏光状態が変化する高強度フェムト秒レーザーパルスの発生
- 極限時間域でのパルス光発生・制御
- 時間的に偏光状態が変化する高強度フェムト秒レーザーパルスの発生
- スペクトル干渉による増幅パルスのキャリアエンベロープ位相変化のシングルショット計測
- LQE2000-21 時間的に偏光状態が変化する高強度フェムト秒レーザーパルスの発生
- 10TW級10fsチタンサファイアレーザー設計の検討
- フェムト秒レーザーパルスの組み合わせによるパルスの偏光制御
- マルチテラワットチタンサファイアレーザーシステムの設計と製作
- フラッシュランプ励起Cr:LiSAFレーザー増幅器
- 30a-YL-6 コンプトン散乱によるフェムト秒X線発生 : フェムト秒レーザーの時間安定化
- 波長1.3μmにおけるフェムト秒光パルス発生
- アト秒光パルスの発生 : 展望と課題
- 極短パルスモード同期固体レーザー
- フェムト秒テクノロジー国際ワークショップ報告(FST'96)
- レーザー技術の基礎研究
- 超短パルスレーザーとその応用 (特集:最先端の光・量子源とその応用)
- レーザー誘起ブレークダウンを用いたエアロゾル中の液滴数密度測定
- 28pPSA-40 1.55um帯Erファイバーレーザー光のチャープパルス増幅(28pPSA 領域5ポスターセッション(新光源・新分光法・微粒子・ナノ結晶ほか),領域5(光物性))