柏尾 典秀 | NTTフォトニクス研究所,日本電信電話株式会社
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概要
関連著者
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栗島 賢二
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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栗島 賢二
NTTフォトニクス研究所,日本電信電話株式会社
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柏尾 典秀
NTTフォトニクス研究所,日本電信電話株式会社
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栗島 賢二
Nttフォトニクス研究所
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柏尾 典秀
Nttフォトニクス研究所
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栗島 賢二
日本電信電話
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栗島 賢二
NTTフォトニクス研
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深井 佳乃
NTTフォトニクス研究所
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山幡 章司
NTTフォトニクス研究所
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山幡 章司
日本電信電話株式会社、nttフォトニクス研究所
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榎木 孝知
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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榎木 孝知
NTTフォトニクス研究所
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榎木 孝知
日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所
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井田 実
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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福山 裕之
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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村田 浩一
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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村田 浩一
NTTフォトニクス研究所
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佐野 公一
NTTフォトニクス研究所,日本電信電話株式会社
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福山 裕之
NTTフォトニクス研究所,日本電信電話株式会社
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村田 浩一
日本電信電話株式会社
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井田 実
NTTフォトニクス研究所
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井田 実
日本電信電話株式会社、nttフォトニクス研究所
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佐野 公一
日本電信電話株式会社
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福山 裕之
Nttフォトニクス研究所
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福山 裕之
Nttシステムエレクトロニクス研究所
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井田 実
日本電信電話
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佐野 公一
NTTフォトニクス研究所
著作論文
- C-10-1 80 Gbit/s InP HBT 1:4デマルチプレクサIC(C-10.電子デバイス,一般講演)
- 高速サブミクロンInP HBTのエミッタ・ベース接合の信頼性(第18回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(ASAD2010))
- 高速サブミクロンInP HBTのエミッタ・ベース接合の信頼性(第18回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(ASAD2010))
- 高速InP HBTにおけるエミッタ電極の長期通電での劣化現象と高耐熱金属導入による高信頼化(電子デバイスの信頼性,信頼性一般)