今井 馨太郎 | (株)東芝、研究開発センター、ulsi研究所

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概要

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関連著者

• 今井 馨太郎

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 今井 馨太郎

  (株)東芝、研究開発センター、ulsi研究所

• 山川 晃司

  (株)東芝セミコンダクター社

• 江口 和弘

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 山川 晃司

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 吉岡 正樹

  ウシオ電機株式会社

• 有隅 修

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 有門 経敏

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 大和田 樹志

  ウシオ電機(株)ランプ技術本部

• 奥村 勝弥

  東京大学先端科学技術研究センター

• 山川 晃司

  (株)東芝 京浜事業所材料部品開発・試作センター

• 有隅 修

  (株)東芝 Ulsi研究所

• 今井 馨太郎

  東北大学

• 江口 和弘

  株式会社 東芝

• 江口 和弘

  (株)東芝

• 吉岡 正樹

  ウシオ電機(株)ランプ技術本部

• 有門 経敏

  (株)東芝

• 清利 正弘

  株式会社 東芝

• 吉岡 正樹

  ウシオ電機

• 清利 正弘

  (株)東芝、研究開発センター、ULSI研究所

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著作論文

• フラッシュランプを用いた新しいPZT膜結晶化技術
• CVD法によるDRAMキャパシタ用(Ba,Sr)TiO_3薄膜の形成

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