清利 正弘 | 株式会社 東芝

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概要

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関連著者

• 江口 和弘

  株式会社 東芝

• 清利 正弘

  株式会社 東芝

• 江口 和弘

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 今井 馨太郎

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 今井 馨太郎

  (株)東芝、研究開発センター、ulsi研究所

• 江口 和弘

  (株)東芝

• 清利 正弘

  (株)東芝、研究開発センター、ULSI研究所

著作論文

• CVD法によるDRAMキャパシタ用(Ba,Sr)TiO_3薄膜の形成
• CVD法によるギガビットDRAM用(Ba,Sr)TiO_3薄膜の形成

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