纐纈 明伯 | 東京農工大学工学部応用分子化学科

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概要

• 同名の論文著者
• 東京農工大学工学部応用分子化学科の論文著者

関連著者

• 纐纈 明伯

  東京農工大学工学部応用分子化学科

• 纐纈 明伯

  東京農工大

• 纐纈 明伯

  東京農工大学大学院・工学系

• 纐纈 明伯

  東京農工大学工学研究科応用化学専攻

• 纐纈 明伯

  東京農工大学大学院工学系応用化学

• 寒川 義裕

  九州大学応用力学研究所

• 伊藤 智徳

  三重大学工学部理工学科

• 纐纈 明伯

  農工大院・工

• 森 篤史

  徳島大学工学部

• 纐纐 明伯

  東京農工大学工学部応用分子化学科

• 纐纈 明伯

  農工大院工

• 寒川 義裕

  学習院大学計算機センター

• 伊藤 智徳

  三重大学工学部物理工学科

• 寒川 義裕

  九州大学応用力学研究所:九州大学大学院工学府航空宇宙工学専攻

• 伊藤 智徳

  三重大学工学研究科

• 纐纈 明伯

  東京農工大学大学院工学系ナノ未来科学研究拠点

• 寒川 義裕

  九大・応力研

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著作論文

• 日本結晶成長学会・会長退任にあたり
• 原子層エピタキシーに魅せられて : 窒化ガリウム自立基板結晶の創製
• Wide Band-Gap Semiconductors : Bulk and Epitaxial Growth(The 40th National Conference on Crystal Growth (NCCG-40) and the 16th International Conference on Crystal Growth (ICCG-16)/the 14th International Conference on Vapor Growth and Epitaxy (ICVGE-14),Ne
• 23pRJ-2 エピタキシャル成長を熱力学で考える(実在表面・機能表面の物理,シンポジウム,領域9,表面・界面,結晶成長)
• ナノ未来材料
• 日本結晶成長学会第10代会長挨拶
• エピタキシャル成長とバッファー層
• InGaNの非混和性に対する基板拘束の寄与 : 成長界面III
• 窒化物半導体の八イドライド気相成長技術の現状と課題

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