澁谷 利行 | 富士通研究所
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概要
関連著者
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澁谷 利行
米国富士通研究所
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澁谷 利行
富士通研究所
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渋谷 利行
(株)富士通研究所
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新田 泉
富士通研究所ITコア研究所CAD研究部
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富士通研究所
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河村 薫
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大塚 育生
富士通
著作論文
- レイアウトに依存した電解メッキによる銅膜生成モデル(信号処理,LSI,及び一般)
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- クリティカルエリア削減による歩留り向上再配線手法(信号処理,LSI,及び一般)
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- パスベース遅延解析におけるチップ内・チップ間バラツキを考慮した遅延分布計算(低消費電力/耐ノイズ・ばらつき設計(2),システムオンシリコン設計技術並びにこれを活用したVLSI)
- パスベース遅延解析におけるチップ内・チップ間バラツキを考慮した遅延分布計算(低消費電力/耐ノイズ・ばらつき設計(2),システムオンシリコン設計技術並びにこれを活用したVLSI)
- パスベース統計的遅延解析における解析パス数と精度に関する考察(組込技術とネットワークに関するワークショップETNET2006)
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- 統計的遅延解析におけるモデルと精度に関する一考察(VLSIの設計/検証/テスト及び一般(デザインガイア))
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- Minimum SpanningTreeに基づいた配置改善手法
- Hill-Climbingを用いたパーティションニング最適化手法
- クリティカルエリア削減による歩留り向上再配線手法(信号処理,LSI,及び一般)