片山 逸雄 | 大阪工業大学応用物理教室
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概要
関連著者
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片山 逸雄
大阪工業大学応用物理教室
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尾浦 憲治郎
阪大工
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生地 文也
阪大工
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片山 逸雄
大阪工大 一般教育科
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生地 文也
九州共立大学工学部
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生地 文也
九州共立大学工学部メカエレクトロニクス学科
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住友 弘二
阪大工
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生地 文也
九共立大工
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田中 保宣
阪大工
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木下 敏宏
阪大工
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尾浦 憲治郎
大阪大学大学院
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尾浦 憲治郎
大阪大学工学部
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片山 逸雄
大阪工業大学
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塙 輝雄
阪大工
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田中 顕一郎
阪大工
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生地 文也
大阪大学工学部, 電子ビーム研究施設
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生地 文也
大阪大学工学部
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住友 弘二
NTT基礎研
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小林 忠司
阪大工
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森下 秀樹
阪大工
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塙 輝雄
阪大工:(現)大阪
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塙 輝雄
大阪大学工学部
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大西 秀朗
大阪大学工学部
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大西 秀朗
大阪大学超高圧電子顕微鏡センター
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綿森 道夫
阪大工
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田中 保寛
阪大工
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綿森 道夫
大阪大学工学部電子工学科
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井沢 洋介
阪大工
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木下 敏宏
大阪大学工学部
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小林 忠司
大阪大学工学部
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住友 弘二
大阪大学工学部
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尾浦 憲治郎
大阪大学工学部ビーム研究施設
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塙 輝雄
大阪大学工学部ビーム研究施設
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片山 逸雄
大阪工業大学一般教育科
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生地 文也
大阪大学工学部ビーム研究施設
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尾浦 憲治郎
大阪大学工学研究科
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片山 逸雄
大工大
著作論文
- Si上金属ナノクラスターの水素誘起自己組織化
- 24p-R-8 Si(111)-√Ag表面の水素誘起構造変化のTOF-ICISS観察
- 5p-E-7 水素終端Si(111)上のAg成長過程のTOF-ICISS観察
- 28a-WB-3 Pb/Si(111)成長初期過程のTOF-ICISS観察
- 29p-PSB-6 TOF-ICISSによるPb/Si(111)表面の水素誘起エピタキシャルクラスタリングの研究
- 30a-ZD-5 Si(111)-?Ag表面の水素誘起構造変化のTOF-ICISS観察及びシミュレーション
- 29p-BPS-52 水素終端Si(100)面上におけるAg薄膜成長のTOF-ICISS観察
- 1p-TA-6 Arイオン衝撃Si(100)表面のTOF-ICISS
- 6p-B4-2 TOF-ISSによるAg/Si(111)系表面の観察
- 29a-P-8 TOF型ICISS装置による表面構造解析[I]
- CMA型AES装置AAS-200による低速イオン散乱分光
- Li+とHe+イオン散乱分光による実用表面の観察(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- TOF型ICISS/ERDAによる表面解析
- Li+とHe+イオン散乱分光による実用表面の観察(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- 30p-TJ-6 TOF-ICISSスペクトルにおける多重散乱の影響(30pTJ 表面・界面)