末岡 修 | 山口大工
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概要
関連著者
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末岡 修
山口大工
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末岡 修
山ロ大理工
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山口大工
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マコチェカンワ カステン
山口大工
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季村 峯生
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川手 博史
山口大工
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山口短大電子情報
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山口大・理
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マコチェカンワ カステン
上智大理工:九大院理
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山口大工
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高木 秀記
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金 弼
山口大工
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季村 峯生
山口大医短
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浜田 亮
山口短大情報
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河田 道人
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Faculty Of Integrated Arts And Science Hiroshima University
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Institute For Iron Steel And Other Metals Tohoku University
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Faculty Of Science And Engineering Saga University
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篠原 紀幸
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石田 浩一
徳山工業高等専門学校
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石田 浩一
徳山工業高等専門学校専攻科
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アドバンスソフト(株)
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嶋村 修二
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Shimamura Shuji
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北島 昌史
東工大院理工
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加藤 英俊
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東京大学原子力研究総合センター
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阿部 浩之
東洋大工
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上智大学理工学部 物理学科
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一宮 彪彦
名古屋大学
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上智大理工
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末永 英典
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Morinaga Y
Faculty Of Engineering Yamaguchi Univ.
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栗巣 普輝
山口大工
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田中 大
上智大
著作論文
- 29a-ZA-11 金属細線の切断過程における原子配置の緩和シミュレーション
- 27p-T-2 金属細線の切断のモンテカルロ・シミュレーション
- 29p-ZB-12 リニアックを用いた高強度低速陽電子ビーム開発と投下型再放出実験への応用
- 26a-L-2 陽電子・電子衝突によるCOS分子の散乱研究
- 23pYJ-9 電子・陽電子散乱によるCF_3IとCF_3Hの全断面積の比較研究
- 25pF-2 電子-ハロゲン化メチルの散乱研究
- 26a-L-3 CH_2F_2分子による陽電子・電子の散乱
- 27a-PS-18 STMによるシリコン表面への原子・分子吸着の観察
- 14pTE-4 C_3H_6 の異性体分子である propene と cyclopropane による電子及び陽電子衝突断面積(原子・分子, 領域 1)
- 29p-B-9 陽電子用モダレータの開発研究
- 30p-YR-4 H_2O, NH_3 気体分子による陽電子のポジトロニュウム形成断面積
- 2p-L-8 陽電子の弾性散乱断面積の直接測定 III : Ne, Ar
- 2p-YC-10 タングステン・モダレータの陽電子放出率とSTM観察
- 29pTB-9 電子衝突におけるトルエンの振動励起(29pTB 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 21aYA-3 C_2H_2F_2分子による電子及び陽電子衝突断面積研究(原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 30p-YR-3 前方散乱強度を用いた気体による陽電子散乱の微分断面積の評価
- 29a-F-11 Heによるe^+の弾性散乱の直接測定II
- 15a-DB-10 Heによるe^+の弾性散乱の直接測定
- 29p-L-7 N_2、H_2、He、CO、O_2によるe^+およびe^-の全断面積(原子・分子)
- 31a-L-8 電子・陽電子散乱によるCO_2分子振動励起ダイナミックス
- 30p-L-11 C_3H_8およびn-Hexaneによる電子・陽電子の散乱全断面積
- 7p-YP-4 CO_2分子によるe^+およびe^-の非弾性散乱
- 7p-YP-3 アセトン分子による電子および陽電子の全断面積
- 6p-YP-3 ペンタンおよびイソペンタン分子による電子散乱の全断面積
- 29a-YK-6 アルコール分子による電子・陽電子の散乱全断面積
- 電子・陽電子のベンゼンおよびトルエン分子による散乱
- 電子・陽電子の蟻酸および酢酸分子による散乱
- 29aXE-6 ベンゼン系分子の陽電子・電子散乱全断面積 II
- 29aXE-5 C_3F_6 と C_4F_ 分子による電子及び陽電子衝突全断面積
- 18aTA-10 CH_2Cl_2及びCHCl_3分子における陽電子・電子散乱
- 27aZF-9 タングステンモダレーターの研究
- 27aZF-7 C_2H_3F_3分子における陽電子・電子散乱
- 23pYJ-11 2フッ化ベンゼンにおける電子及び陽電子散乱実験
- 23pYJ-10 電子のCl_2分子による散乱断面積
- 29pXJ-17 低速陽電子ビーム実験で用いるモダレーター研究
- 18aTA-11 CH_4-CCl_4系統多原子分子による陽電子及び電子衝突全断面積実験
- 2p-L-7 C_2H_2によるe^+及びe^-の全断面積の前方散乱の補正
- 29a-F-13 H_2O、NH_3分子によるe^+およびe^-の全断面積の前方散乱補正
- 15a-DB-9 e^+およびe^-の全断面積における前方散乱の補正
- 25p-ZK-3 O_2分子による低速e^+およびe^-の全断面積
- 27a-S-11 e^+-H_2およびe^--H_2全断面積の測定
- 29p-Q-9 低速e^+のN_2,CO,CO_2分子による散乱
- 3a-N-3 HClによるe^+およびe^-の全断面積
- 2a-S-12 CCl_4分子によるe^+およびe^-の全断面積の測定
- 6a-ZG-3 低速陽電子用のモダレーター
- 29a-Z-12 PbI_2/CdI_2超格子の量子井戸状態
- 29a-YQ-3 PbI_2/CdI_2超格子における励起子の量子閉じ込め効果
- 7pWF-8 C_2H_2F_2とC_2F_5I分子による電子及び陽電子衝突全断面積(原子・分子,領域1)
- 27aXL-5 C_3H_4の異性体分子であるAlleneとPropyneによる電子の弾性及び全断面積(27aXL 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理分野))
- 27aXL-6 Cl_2分子による電子の弾性及び全断面積(27aXL 原子・分子,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理分野))
- 2p-T-7 陽電子・電子のC_2F_6による散乱全断面積(2pT 原子・分子,原子・分子)