斉藤 和雄 | 名古屋工業技術試験所

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概要

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• 同名の論文著者
• 名古屋工業技術試験所の論文著者

関連著者

• 斉藤 和雄

  名古屋工業技術試験所

• 丹羽 博昭

  名古屋工業技術研究所

• 種村 誠太

  名古屋工業技術研究所

• 小早川 幹夫

  名古屋工業技術試験所

• 小早川 幹夫

  名工試

• 斎藤 和雄

  名古屋工業技術研究所

• 丹羽 博昭

  名工試

• 種村 誠太

  名工試

• 宮川 草児

  名古屋工業技術研究所

• 池山 雅美

  名古屋工業技術試験所

• 宮川 佳子

  名古屋工業技術研究所

• 斉藤 和雄

  名古屋工技試

• 池山 雅美

  名古屋工業技術研究所

• 三木 健

  名古屋工業技術研究所

• 溝田 武志

  名工研

• 溝田 武志

  名古屋工業技術研究所

• 三木 健

  名工研

• 中村 守

  名古屋工研

• 中村 守

  名古屋工業技術研究所

• 重松 一典

  産業技術総合研究所中部センター

• 中尾 節男

  名古屋工業技術研究所

• 重松 一典

  名古屋工業技術研究所

• 小塚 晃透

  名古屋工業技術試験所

• 宮川 佳子

  産業技術総合研究所中部センター基礎素材研究部門

• 中尾 節男

  産業技術総合研究所中部センター基礎素材研究部門

• 阿藤 康郎

  名古屋工業技術試験所

• 宮川 草児

  (独)産業技術総合研究所サステナブルマテリアル研究部門

• 中尾 節男

  (独)産業技術総合研究所サステナブルマテリアル研究部門

• 池山 雅美

  (独)産業技術総合研究所サステナブルマテリアル研究部門

• 田畑 三郎

  大阪工業技術試験所

• 中村 哲

  名古屋工業技術試験所

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著作論文

• イオンインプランテーションによりSi_3N_4セラミックス上に形成された導電層のクラックゲージ及び歪ゲージとしての利用に関する研究
• 29pZF-8 PDMS法による金クラスターの質量分布測定
• ファインセラミック原料粉体のPIXE分析
• RBS法によるa-SixCyHz膜の組成分析
• マグネトロン反応性スパッタリングによる炭化シリコン膜の組成と表面状態
• プラズマCVDによる硬質カーボン膜コーティング
• 低圧プラズマCVDによる窒化シリコンコーティング膜
• プラズマCVDによる硬質カーボン膜コーティング
• 窒素イオン注入によるTiN層の形成 (イオン照射)

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