吉田 安子 | (株)日立製作所半導体グループ
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概要
関連著者
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池田 修二
日立製作所半導体事業部
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(株)日立製作所半導体グループ:(現)トレセンティテクノロジーズ
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山中 俊明
日立 中研
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日立
著作論文
- 半導体浅溝型素子分離(SGI)構造の酸化反応誘起応力の検討
- 応力緩和による半導体浅溝型素子分離構造の形状制御
- 大容量、低電圧、高速動作に適したSRAMメモリーセル技術Stacked Split Word-line(SSW)セル