鈴木 範夫 | (株)日立製作所半導体グループ

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概要

• 同名の論文著者
• (株)日立製作所半導体グループの論文著者

関連著者

• 斉藤 直人

  (株)日立製作所機械研究所

• 三浦 英生

  (株)日立製作所機械研究所

• 池田 修二

  (株)日立製作所半導体事業部

• 石塚 典男

  (株)日立製作所機械研究所

• 三浦 英生

  日立機械研

• 池田 修二

  日立製作所半導体事業部

• 池田 修二

  (株)日立製作所半導体グループ:(現)トレセンティテクノロジーズ

• 三浦 英生

  東北大学大学院工学研究科

• 三浦 英生

  東北大

• 吉田 安子

  (株)日立製作所半導体グループ

• 鈴木 範夫

  (株)日立製作所半導体グループ

• 鈴木 範夫

  (株)日立製作所半導体グループ:(現)トレセンティテクノロジーズ

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著作論文

• 半導体浅溝型素子分離(SGI)構造の酸化反応誘起応力の検討
• 応力緩和による半導体浅溝型素子分離構造の形状制御

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