山下 浩明 | 東京工業大学大学院理工学研究科
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概要
関連著者
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古屋 一仁
東京工業大学院理工学研究科
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宮本 恭幸
東京工業大学
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古屋 一仁
東京工業大学
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古屋 一仁
東工大工
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山下 浩明
東京工業大学大学院理工学研究科
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高橋 新之助
東京工業大学大学院理工学研究科
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齋藤 尚史
東京工業大学
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武部 直明
東京工業大学大学院理工学研究科
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小林 嵩
東京工業大学大学院理工学研究科
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三浦 司
東京工業大学大学院理工学研究科
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Saito Hisashi
Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, O-okayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan
著作論文
- SiO_2細線埋込InP系HBTにおけるCBr_4を使ったin-situエッチング(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- コレクタ層内にSiO_2細線を埋め込んだHBTのDC特性(化合物半導体プロセス・デバイス・一般)