高木 俊宜 | 京都大学工学部
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概要
関連著者
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高木 俊宜
京都大学工学部
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高木 俊宜
京大・電子工学
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高木 俊宜
京大 工
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竹田 美和
名古屋大学
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佐々木 昭夫
京大・工
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竹田 美和
京大・工
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山田 公
京都大学工学部附属イオン工学実験施設
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高木 俊宜
京大・工
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今村 雄二郎
京大・工
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高木 俊宜
(株)イオン工学研究所:(株)イオン工学センター
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石川 順三
京都大学工学研究科
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佐々木 昭夫
大阪電気通信大
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高木 俊宜
京都大学工学部電子工学教室
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石川 順三
京大工
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高木 俊宜
(株)イオン工学研究所
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佐々木 昭夫
京都大学工学部電気工学教室
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佐々木 昭夫
京都大学工学部
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井上 清
京都大学工学部電子工学教室
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水垣 重生
京都大学工学部電気工学教室
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佐々木 昭夫
京都大学工学研究科電子物性工学専攻
著作論文
- 2) 進行波偏向系の偏向特性に関する一解析法(第12回 テレビジョン電子装置研究委員会)
- 1) 誘電体を装荷した進行波偏向系の解析(第12回 テレビジョン電子装置研究委員会)
- 2)進行波偏向系の一解析法(第8回テレビジョン電子装置研究委員会)
- 液相エピタキシャル成長で発生する疑似成長層 : エピタキシー (LPE)
- InP基板上のIn_Ga_xAs混晶の結晶性とその成長依存性 : エピタキシー (LPE)
- InP基板上のIn_Ga_xAs成長層とその厚さ方向の電気的特性
- InP基板上のIn_Ga_xAs成長層とその特性
- クラスタイオンビーム加工技術(エネルギービーム加工の現状と将来)
- 大学における教育と研究の問題点 (21世紀への応用物理) -- (教育と研究の現状)
- 大学・企業間の分業と協同 (研究者教育) -- (大学と企業間の協力)
- クラスタ-イオンビ-ム技術とその応用
- イオンビ-ムを用いた薄膜形成技術と将来の展望
- 蒸着膜形成・結晶成長技術としてのイオンビ-ムテクノロジ- (荷電ビ-ム--イオンビ-ムとその応用) -- (イオンビ-ムテクノロジ-への期待と展望)
- 概論 (微細加工のためのイオン源(技術ノ-ト))
- 蒸着・注入併用法 (イオン加工技術(技術ノート))
- イオン化プレーティング (イオン加工技術(技術ノート))
- 装置のあり方 (装置特集) -- (談話室)
- イオン源(最近の展望)
- 重イオン源の進歩と応用
- イオンビームの最近の進歩とその応用
- 7-部門講演 マイクロ波能動素子について
- 負イオン源
- クラスタイオンビーム蒸着法によるInSbおよびGaAs薄膜の作製