高木 俊宜 | 京大・工

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概要

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著作論文

• クラスタイオンビームエピタキシによるSi薄膜の特性 : 結晶評価
• 多元クラスタイオンビーム法によるMnBi薄膜の作成 : 結晶評価
• 光磁気記憶用Gd_3Fe_5O_単結晶薄膜の作成とその特性 : エピタキシー(LPE)
• 液相エピタキシャル成長で発生する疑似成長層 : エピタキシー (LPE)
• InP基板上のIn_Ga_xAs混晶の結晶性とその成長依存性 : エピタキシー (LPE)
• InP基板上のIn_Ga_xAs成長層とその厚さ方向の電気的特性
• InP基板上のIn_Ga_xAs成長層とその特性
• 3B20 液晶の電気熱光学効果とディスプレイへの応用
• 18-10 液晶の電気熱光学効果によるディスプレイ
• 18-9 液晶の電気熱光学効果

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