松原 覚衛 | 京大・工

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著作論文

• クラスタイオンビームエピタキシによるSi薄膜の特性 : 結晶評価
• 新しい薄膜形成技術 (光学材料を中心とした設計,および加工の問題)
• クラスタ・イオンビ-ム蒸着法 (最近のZnO膜作成技術(技術ノ-ト))
• 多元クラスタイオンビーム法によるMnBi薄膜の作成 : 結晶評価
• 光磁気記憶用Gd_3Fe_5O_単結晶薄膜の作成とその特性 : エピタキシー(LPE)

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