西尾 洋二 | エルピーダメモリ株式会社
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概要
関連著者
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西尾 洋二
エルピーダメモリ株式会社
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植松 裕
株式会社日立製作所中央研究所
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大坂 英樹
株式会社日立製作所中央研究所
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波多野 進
エルピーダメモリ株式会社
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中村 聡
(株)日立製作所生産技術研究所
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須賀 卓
(株)日立製作所生産技術研究所
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中村 聡
株式会社日立製作所生産技術研究所
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須賀 卓
株式会社日立製作所生産技術研究所
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大坂 英樹
日立製作所
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植松 裕
株式会社日立製作所生産技術研究所
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船場 誠司
エルピーダメモリ(株)
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片桐 光昭
エルピーダメモリ(株)
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廣瀬 行敏
エルピーダメモリ(株)
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伊佐 聡
エルピーダメモリ(株)
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大坂 英樹
株式会社日立製作所生産技術研究所
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大坂 英樹
株式会社日立製作所 生産技術研究所
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須賀 卓
株式会社日立製作所横浜研究所生産技術センタ
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廣瀬 行敏
エルピーダメモリ
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栗田 公三郎
日立製作所 デバイス開発センタ
-
栗田 公三郎
日立製作所デバイス開発センタ
-
柴田 学
日立製作所半導体事業部
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能登 隆行
日立製作所半導体事業部
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加藤 和雄
日立製作所半導体事業部
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西尾 洋二
日立製作所日立研究所
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関 光穂
日立製作所日立研究所
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小野 健
日立マイコンシステム
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小池 勝則
日立エンジニアリング
著作論文
- 実メモリモジュールを模擬したテスト基板におけるDDR2-SDRAMのVrefノイズ許容値の測定手法(チップ・パッケージ・ボードにおけるパワーインテグリティの設計評価,LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術、テスト技術、一般)
- 実メモリモジュールを模擬したテスト基板におけるDDR2-SDRAMのVrefノイズ許容値の測定手法(チップ・パッケージ・ボードにおけるパワーインテグリティの設計評価,LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術、テスト技術、一般)
- 100MHz,500Kゲート,3.3V動作0.5μmCMOSゲートアレイ
- DRAM電源系マクロモデルを使ったパッケージ設計手法の開発(LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術, テスト技術)
- DRAM電源系マクロモデルを使ったパッケージ設計手法の開発(LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術, テスト技術)