奥野 和彦 | 阪大工
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概要
関連著者
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奥野 和彦
阪大工
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阪大工
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阪大工
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深田 昇
阪大工
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石見 基弘
阪大工
著作論文
- 2p-NM-3 ELS法によるPol-Si(111)界面形成の初期過程の観察
- 31p-J-6 水素などを吸着したSi表面上へのAu膜形成過程と低温界面反応
- 31p-J-5 Si清浄表面上での金属薄膜(シリサイド薄膜)形成過程と低温界面反応
- 3a-E-11 AES法によるmetal/Si界面形成のinitial stageの観測
- Si(111)面上へのAu膜成長のLEED, ELS及びAESによる観察 : 微粒子・薄膜
- 28a-E-10 AESによるNi-sililcide/Si界面の解析とその特性
- 29p-U-3 Si清浄表面への金属膜の形成過程と低温界面反応(II) : 高速イオンチャネリング
- 29p-U-2 Si清浄表面への金属膜の形成過程と低温界面反応(I) : ELζによる観測
- 4p-D-6 Transition metal silicide/Si 接合の電子状態
- 1p-A-9 電子分光法によるGe-Si(1l1)界面形式の初期過程の観察
- 2p-NM-2 AES・ELS法による金属-半導体接合形成初期過程の観察
- 2p-Q-1 Si清浄表面への金属の極薄蒸着とそのAES,LEEDなどによる観測
- Si単結晶基板上へのFe膜成長のAES-LEEDによる観察
- 31p KA-11 Si清浄表面への金属(Feなど)の極薄蒸着とそのAES, LEEDなどによる観測
- 6a-LT-14 Si_xNi_y系での^SiのNMR(Tiの測定)
- 12a-E-4 シアニン色素-TCNQ系陰イオンラジカル塩単結晶のESR IV